關注納米技術產業(yè)發(fā)展 天仁微納攜納米壓印光刻設備亮相納博會
【化工儀器網(wǎng) 展會報道】2024年10月23日至25日，第十四屆中國國際納米技術產業(yè)博覽會(以下簡稱：納博會)在蘇州國際博覽中心舉辦。大會由峰會、展覽、大賽、對接會等部分組成，重點聚焦納米新材料、微納制造、第三代半導體、納米壓印、納米大健康、能源與清潔技術、納米生物技術等產業(yè)領域，是我國納米技術應用產業(yè)大規(guī)模國際性盛會，同時也是企業(yè)、高校及科研單位進行納米技術產業(yè)交流合作的重要平臺。
此次納博會吸引了全球納米科技領域的優(yōu)質企業(yè)及眾多行業(yè)內的精英匯聚一堂，共襄盛舉。青島天仁微納科技有限責任公司(以下簡稱：天仁微納)作為參展企業(yè)之一，攜旗下GL300 Cluster 200/300mm全自動納米壓印光刻生產線、GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外納米壓印光刻設備、UniPrinter桌面型納米壓印光刻設備等產品亮相展會。
天仁微納成立于2015年，是專業(yè)的微納加工設備和解決方案提供商。公司自成立以來始終專注于納米加工領域，核心競爭力是為客戶提供納米壓印整體解決方案。目前天仁微納產品與服務涵蓋納米壓印相關的設備、模具、材料、工藝以及生產咨詢。憑借自身領先的技術、完善的售后服務和快速的市場應對能力，天仁微納在納米壓印領域取得了顯著的市場地位。
GL300 Cluster 200/300mm全自動納米壓印光刻生產線
天仁微納此次推出的GL300 Cluster是功能強大的全自動納米壓印光刻生產線，它集成了從納米壓印晶圓預處理工藝，直至納米壓印光刻全套工藝步驟。產品標配天仁微納CLIV(Contact Litho into Vacuum)壓印技術，可實現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動高精度、高深寬比納米結構復制量產。
設備采用模塊化設計，用戶可以根據(jù)工藝需求和生產節(jié)奏自由配置晶圓清洗、涂膠、烘烤、冷卻、Plasma表面處理、AOI檢測、Post Cure以及納米壓印的模塊數(shù)量，達到最優(yōu)的生產效率。此外，GL300 Cluster還支持全自動工作模具復制、工作模具自動更換、自動預處理和自動對位、自動壓印、自動脫模，全部工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中進行，以保證壓印結果質量。
GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外納米壓印光刻設備
GL8 CLIV Gen2是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設備，產品同樣標配天仁微納CLIV壓印技術，可在200mm以下晶圓面積上實現(xiàn)高精度(結構精度優(yōu)于10納米)、高深寬比(深寬比優(yōu)于10：1)納米結構復制。
GL8 CLIV Gen2支持自動復制柔性復合工作模具，工作模具具有精度高、壽命長等特點，可以顯著降低大面積納米壓印工藝中模具使用成本。CLIV技術的應用保證了納米壓印結構的精度與高深寬比結構的完整填充，同時保證了大面積結構壓印均勻性。
UniPrinter桌面型納米壓印光刻設備
UniPrinter是一種專門為大學、科研院所和企業(yè)產品研發(fā)所設計，操作簡單、功能強大的臺面型納米壓印光刻設備。產品可實現(xiàn)4英寸以下晶圓面積上高精度、高深寬比納米結構壓印，適合用作紫外納米壓印光刻工藝開發(fā)，器件原型快速驗證，納米壓印材料測試等研發(fā)。設備內自動復制柔性復合工作模具，自動壓印、自動曝光固化、自動脫模，工藝過程無需人工干預。同時設備還沿用了天仁微納量產型納米壓印設備的工藝與材料體系，在該設備上開發(fā)的工藝可以無障礙轉移到天仁微納量產設備上進行生產。
納米壓印技術已經發(fā)展了二十余年，隨著技術的不斷進步和成本的降低，納米壓印技術逐漸受到市場的關注，并在越來越多領域得到應用。由于納米壓印技術的加工過程不使用可見光或紫外光加工圖案，而是使用機械手段進行圖案轉移，這種方法能達到很高的分辨率，并且模板可以反復使用，大大降低了加工成本、縮短了加工時間，因此納米壓印技術被認為是一種有望代替現(xiàn)有光刻技術的加工手段。
天仁微納作為國內較早涉足納米壓印技術領域技術及產品開發(fā)的企業(yè)，正用產品引領著納米壓印技術的國產崛起。展會期間我們看到了眾多客戶來到天仁微納的展位進行交流，其中不乏國際友人，這也足以見的天仁微納的實力。
納米壓印技術的發(fā)展正需要天仁微納這樣執(zhí)著于技術的企業(yè)來推動。相信在不久的將來，天仁微納會推出更多精度更高、功能更全面的納米壓印光刻設備，而這些設備也將進一步打開光刻技術的發(fā)展前景，為納米產業(yè)發(fā)展做出新的貢獻。
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