【Axioskop 40 Pol】Zeiss蔡司偏光顯微鏡

應(yīng)用領(lǐng)域

地質(zhì)學(xué)，礦物學(xué)，結(jié)晶學(xué)，磁性材料，陶瓷/玻璃，高分子材料，紡織學(xué)，法醫(yī)鑒定等行業(yè)的偏光研究及日常實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。

技術(shù)參數(shù)：

1、物鏡倍數(shù)：5X 10X 20X 40X 50X 63X 100X 可選1.25X 2.5X 150X

2、目鏡倍數(shù)：10X/23mm

3、物鏡轉(zhuǎn)盤(pán)：6孔

4、觀察功能： 透射光: 偏光、正交偏光、錐光、明場(chǎng)、暗場(chǎng)、相襯、DIC

                     反射光：偏光、明場(chǎng)、暗場(chǎng)、DIC、C-DIC、熒光

5、可擴(kuò)展性：可配圖像分析系統(tǒng)（數(shù)碼相機(jī)、攝像頭、圖像分析軟件）

6、可配冷熱臺(tái)

7、可配顯微分光光度計(jì)

產(chǎn)品描述：

Axioskop 40 Pol的技術(shù)特點(diǎn)

1. 線形或環(huán)形，兩種類(lèi)型的偏光

線偏光只能從一個(gè)特定方向看到樣品結(jié)構(gòu)，而環(huán)偏光可以在不轉(zhuǎn)動(dòng)載物臺(tái)的情況下，看到各個(gè)方向的圖象，有利于對(duì)巖石薄層進(jìn)行彩色照相，而且有利于通過(guò)圖象分析檢測(cè)塑料結(jié)構(gòu)或玻璃的應(yīng)力。

2 .C-DIC：高反差的*技術(shù)

Axioskop 40 Pol的*技術(shù)：C-DIC ，適用于EC Epiplan-Neofluars物鏡；使用方便，可以通過(guò)簡(jiǎn)單地調(diào)節(jié)旋鈕來(lái)獲得固定圖象片段的*反差。

3. 無(wú)接觸測(cè)量：新型反射光干涉儀TIC

環(huán)行雙光束干涉儀能夠測(cè)量物體的表面構(gòu)造和粗糙度，測(cè)量范圍50到5000納米，適用于各種倍率的物鏡。

4. 磁性材料模塊

磁性材料在新型材料和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備中有著日益增長(zhǎng)的重要性，在顯微鏡觀察中，通過(guò)克爾效應(yīng)成像，*次在蔡司顯微鏡上得以實(shí)現(xiàn)。

廠家:德國(guó)蔡司（zeiss jena）光學(xué)

顯微鏡價(jià)格:請(qǐng) carl zeiss 中國(guó) 深圳顯微鏡銷(xiāo)售代理

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