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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設(shè)備>其它實驗室常用設(shè)備>鍍膜機(jī)>VTC-5RFI薄膜研究 5靶頭等離子射頻磁控濺射儀

VTC-5RFI薄膜研究 5靶頭等離子射頻磁控濺射儀

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司
  • 品牌 合肥科晶
  • 型號 VTC-5RFI薄膜研究
  • 產(chǎn)地 安徽省合肥市蜀山區(qū)科學(xué)院路10號
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/10/22 16:29:35
  • 訪問次數(shù) 3299

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  合肥科晶材料技術(shù)有限公司成立于1997年,是由一群來自麻省理工學(xué)院和加州大學(xué)伯克利分校的材料研究人員創(chuàng)辦的美國MTI公司與中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院合資興辦的高新技術(shù)企業(yè)。主要生產(chǎn)氧化物晶體(A--Z)和材料實驗室成套設(shè)備:包括“混料-壓料-燒料”(混料機(jī)、壓片機(jī)、箱式爐、真空管式爐)以及“定向-切割-研磨-拋光”(X射線定向儀、低速外圓鋸、金剛石線切割機(jī)、自動研磨、拋光機(jī))。公司自主研發(fā)生產(chǎn)上百款不同規(guī)格尺寸、溫度、高溫高壓及快速升溫等產(chǎn)品,其中包括:箱式爐、氣氛爐、管式爐、井式爐、RTP快速升溫爐、高溫高壓爐、鍍膜機(jī)、清洗劑及新能源鋰離子電池研發(fā)等相關(guān)實驗室設(shè)備?,F(xiàn)已成為氧化物晶體(A--Z)的主要制造商和材料研究實驗室設(shè)備的*,為科研工作者提供材料研究解決方案。產(chǎn)品設(shè)計*、性能優(yōu)異,質(zhì)量可靠,性價比高,環(huán)保節(jié)能、返修率低,遠(yuǎn)銷到歐洲,美國,日本,德國等許多國家,廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、冶金、醫(yī)學(xué)、新能源材料研發(fā)等領(lǐng)域,受到客戶*好評。
 
  科晶公司秉承"以人為本、技術(shù)為導(dǎo)、誠信為基、積極創(chuàng)新"的經(jīng)營理念,全力打造材料研發(fā)設(shè)備的品牌,竭力為科學(xué)進(jìn)步和社會發(fā)展做出貢獻(xiàn)。
 

真空管式爐,高溫箱式爐,高速震動球磨機(jī),RTP快速退火爐,高溫高壓爐,涂覆機(jī),電池制備設(shè)備等

 VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀,針對于高通量MGI(材料基因組計劃)薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料,通過5種元素,按16種不同配比組合。

 

技術(shù)參數(shù)

概念

  • 5個濺射頭安裝5種不同材料
  • 通過不同的濺射時間,5種材料可以濺射出不同組分的產(chǎn)物,
  • 選擇5個等離子射頻電源,可在同一時間濺射5種材料
  • 真空腔體中安裝有旋轉(zhuǎn)樣品臺,可以制作16個樣品

電源

單相220 VAC, 50 / 60 Hz

射頻電源

  • 一個13.5MHz,300W自動匹配的射頻電源安裝在儀器上,并與靶頭相連接
  • 一個旋轉(zhuǎn)開關(guān)可一次激活一個濺射頭。濺射頭可以在真空或等離子體環(huán)境中自動切換
  • 可選購多個射頻電源,同一時間濺射多個靶材。
  • 所有的濺射參數(shù),都可由電腦設(shè)置

直流電源(可選)

  • 可選購直流電源,來濺射金屬靶材
  • 可配置5個直流或射頻電源,來同時濺射5中靶材

磁控濺射頭

 

  • 5個1英寸的磁控濺射頭,帶有水冷夾層
  • 可在本公司額外購買射頻線
  • 電動擋板安裝在濺射腔體內(nèi)
  • 設(shè)備中配有一循環(huán)水冷機(jī),水流量為10L/min
  •  (1)  (2) (3) (4)

濺射靶材


  • 所要求靶材尺寸:直徑為25.4mm,zui大厚度3mm
  • 濺射距離: 50 – 80 mm(可調(diào))
  • 濺射角度: 0 – 25°(可調(diào))
  • 配有銅靶和 Al2O3 靶,用于樣品測試用
  • 可在本公司購買各種靶材
  • 實驗時,需要將靶材和銅片粘合,可通過導(dǎo)電銀漿粘合(可在本公司購買導(dǎo)電銀漿)

真空腔體

 

  • 真空腔體采用304不銹鋼制作
  • 腔體內(nèi)部尺寸:  470mm L×445mm D×522mm H  (~ 105 L)
  • 鉸鏈?zhǔn)角婚T,直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口
  • 真空度: 4E-5 torr (采用分子泵)

樣品臺

  • 直徑為150mm的樣品臺,上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺,帶有10mm的孔洞,每次露出一個樣品接收濺射成膜。
  • 樣品臺尺寸:Φ150mm,可通過程序控制來旋轉(zhuǎn),可制作16種不同組分的薄膜
  • 樣品臺可以加熱,zui高溫度可達(dá)600℃

真空泵

  • 設(shè)備中配有一小型渦旋分子泵
  • 真空泵接口為KF40

石英振蕩測厚儀(可選)

可選購精密石英振蕩測厚儀,安裝在真空腔體內(nèi),實時測量薄膜的厚度,精確度為0.1 Å(需水冷)

凈重

60kg

質(zhì)量認(rèn)證

CE認(rèn)證

質(zhì)保

一年質(zhì)保期,終生維護(hù)

應(yīng)用注意事項

  • 此款設(shè)備設(shè)置主要是在單晶基片上制作氧化物薄膜,所以不需要高真空的環(huán)境
  • 所用氣瓶上必須安裝減壓閥(可在本公司購買),所用Ar氣純度為5N
  • 為了得到較好質(zhì)量的薄膜,可以對基片進(jìn)行清洗
  • 用超聲波清洗機(jī),用丙酮或乙醇作為清洗介質(zhì),清除基片表面的油脂,然后在N2氣或真空環(huán)境下對基片干燥
  • 等離子清洗機(jī),可使基片表面粗糙化,改變基片表面化學(xué)活性,清除表面污染物
  • 可在基片表面鍍上緩沖層,如Cr, Ti, Mo, Ta,,可改善金屬或合金膜的粘附性
  • 濺射一些非導(dǎo)電靶材,其靶材背后必須附上銅墊片
  • 本公司實驗室成功地在Al2O3基片上成功生長出ZnO外延膜
  • 因為濺射頭連接著高電壓,所以用戶在放入樣品或更換靶材時,必須切斷電源
  • 不可用自來水作為冷卻水,以防水垢堵塞水管。應(yīng)該用等離子水,或冷卻介質(zhì)
  •   

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