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PDC-BGL等離子清洗機(jī)(器)

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等離子清洗機(jī)

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     成都維克光譜儀器技術(shù)發(fā)展有限公司成立于1999年,一直從事近紅外光譜的儀器開發(fā),方法軟件開發(fā),以及技術(shù)服務(wù)。

 

等離子清洗器,激光拉曼光譜(RAMAN),紫外、紫外分光光度計、紫外可見分光光度計、UV

產(chǎn)地類別 國產(chǎn)

PDC-BGL等離子清洗機(jī)(器)是一種表面處理設(shè)備, 用氣體作為處理介質(zhì),它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)以電能將氣體轉(zhuǎn)換為化學(xué)反應(yīng)性和活性很高的氣體等離子體,等離子體對固體樣品表面進(jìn)行相互作用,引起分子結(jié)構(gòu)改變,從而對樣品表面的有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗和使樣品表面改性,以獲得希望的表面特性。用氣體作為處理介質(zhì)有效地避免了對環(huán)境和樣品帶來的二次污染。等離子清洗器外接一臺真空泵,工作時氣體等離子體輕柔沖刷樣品的表面,短時間就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清洗能力達(dá)到分子級。等離子清洗器可對樣品的表面改性,加強(qiáng)樣品的粘附性、相容性和浸潤性,也可對樣品消毒和殺菌。 
PDC-BGL等離子清洗機(jī)(器)是針對國外等離子清洗器價格貴,難以推廣等缺點(diǎn),吸取了現(xiàn)有國內(nèi)外等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn),結(jié)合中國用戶的需求和使用習(xí)慣,利用現(xiàn)代*的科技手段而開發(fā)生產(chǎn)出的新型系列等離子清洗機(jī)。它除具有一般等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)外,更具有性價比高,使用成本低,特別易于維護(hù)的優(yōu)點(diǎn),而且可選性*,可以滿足各種用戶不同使用目的對設(shè)備的特殊需求。清洗艙的材料有耐熱玻璃、不銹鋼可選;不銹鋼清洗艙有圓形、方形可選;清洗艙的尺寸可根據(jù)用戶的實(shí)際需要制定;清洗艙中工裝支架可根據(jù)用戶清洗件的尺寸量身定做。



技術(shù)參數(shù):

型號規(guī)格:PDC-BGL
整機(jī)規(guī)格:750×780×1660(長×寬×高)mm
整機(jī)重量:400 Kg
反應(yīng)艙規(guī)格:600×470×470(長×寬×高)mm(不銹鋼)
反應(yīng)艙有效容積:110 L
輸入電源:380(三相)V/50Hz
整機(jī)輸入功率:2500 W(含真空泵)
射頻功率:0~1000W(連續(xù)可調(diào))
射頻頻率:13.56 MHz
數(shù)字定時器:0~99.99 min
極限真空度: 50 Pa
浮子流量計: 0.1~1.6 L/min 量程
觀察窗: 觀察清洗艙內(nèi)輝光狀態(tài)
常用工作氣體: 空氣、氬氣、氮?dú)饣蚧旌蠚怏w等


可根據(jù)用戶需要設(shè)計制作國產(chǎn)等離子清洗及處理設(shè)備。


主要特點(diǎn):

整機(jī)一體化、結(jié)構(gòu)緊湊、安裝方便。
常溫條件下對樣品進(jìn)行非破壞性超清洗。
*清除樣品表面的有機(jī)污染物。
氣體清洗介質(zhì)使樣品清洗后無二次污染。
設(shè)備操作簡單方便,使用成本極低,易于維護(hù)。
具有表面清洗、表面活化、表面刻蝕和表面沉積的功能。
應(yīng)用領(lǐng)域:
LED、LCD、PCB、觸電子生產(chǎn)領(lǐng)域中的超清洗。
移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。
清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。
封裝領(lǐng)域中的清洗和改性,增強(qiáng)其粘附性,適用于直接封裝殛粘和。
涂覆鍍膜領(lǐng)域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面改性,使其活化,增強(qiáng)
表面粘附性、浸潤性、相容性,顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。



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