一、設(shè)備概述：
    HWX-2型超臨界細(xì)微粒子制備裝置的不斷發(fā)展，利用超臨界二氧化碳，能溶脹大多數(shù)聚合物，又能溶解很多小分子的特性，將小分子滲透到聚合物中，可對聚合物的表面和內(nèi)部性質(zhì)進(jìn)行修飾和裁剪，有利于制備功能高分子材料。超臨界流體插嵌技術(shù)近年來，作為一種制備功能高分子材料的新技術(shù)而引人關(guān)注。
     HWX-2型超臨界細(xì)微粒子制備裝置其原理是：首先將小分子改性劑溶于超臨界CO2中，然后此二元系與聚合物接觸，超臨界CO2使聚合物溶脹，改性劑從而擴(kuò)散到聚合物中．降壓后CO2迅速逃逸，而大部分改性劑則留在聚合物中，從而實現(xiàn)了對高分子的改性．利用超臨界流體插嵌技術(shù)，人們已經(jīng)成功地將不同的添加劑與高分子混合，實現(xiàn)了高分子材料的改性．國內(nèi)外關(guān)于這方面的研究已相當(dāng)廣泛。
    RESS主要是利用超臨界流體的性質(zhì)對溫度和壓力變化十分敏感這一特性，改變溫度和壓力可以顯著的改變超臨界流體的溶劑化能力。超臨界流體在RESS過程中作為溶劑使用，其基本原理為：先將溶質(zhì)溶解于一定溫度和壓力的超臨界流體中，然后是超臨界溶液在非常短的時間（10-15s）內(nèi)通過一個特制的噴嘴（25-80μm）進(jìn)行減壓膨脹，并形成一個以音速傳遞的機(jī)械擾動。由于在很短的時間內(nèi)溶液達(dá)到高度過飽和狀態(tài)，過飽和度可達(dá)105-108，使溶質(zhì)在瞬間形成大量的晶核，并在較短的時間內(nèi)完成晶核的生長，從而生成大量微小的、粒度分布均勻的超細(xì)微粒。
    RESS的顯著特點是快速推進(jìn)的機(jī)械擾動和快速降壓所產(chǎn)生的*過飽和度，機(jī)械擾動和降壓使得微粒粒度均一、粒徑分布較窄，*的過飽和度使得微粒粒徑很小。RESS過程使用的超臨界流體在常態(tài)下通常為氣體，因而所獲得的產(chǎn)品中溶劑的殘留極少，它的結(jié)晶過程僅通過改變體系的壓力而實現(xiàn)，無需添加其他物質(zhì)，避免了其他雜質(zhì)對產(chǎn)品的污染；不涉及大量有機(jī)溶劑的使用，減少了廢水排放和溶劑回收所需要的能耗；超臨界流體一般只需再壓縮即可循環(huán)使用，大大簡化了工藝流程；可獲得粒度分布狹窄的晶體并且易于調(diào)整。影響微粒形態(tài)和尺寸的主要因素有：原料的性質(zhì)和組成、操作溫度、壓力降、噴嘴大小等，其中RESS過程的噴嘴是決定流體膨脹特性，并終決定產(chǎn)物形態(tài)和質(zhì)量的關(guān)鍵部件。RESS操作容易，過程簡單，是研究得較早的一項技術(shù)。但在RESS過程中，溶質(zhì)在超臨流體中要有一定的溶解度是制備微粒的必要條件，而這一點也限制了RESS的應(yīng)用。因為在超臨界流體（如CO2）中有理想的溶解度的物質(zhì)是很少的。目前有人采用加入助溶劑的辦法提高溶質(zhì)在超臨界流體中的溶解度，但產(chǎn)品中的溶劑殘留也是一個問題。此外，采用RESS過程，超臨界流體的消耗量比較大、成本高，這也是一個限制因素。