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SC1 CIF勻膠機

具體成交價以合同協(xié)議為準

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企業(yè)歷程 :

◆ 2006 年,在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大學(xué)科研院所銷售儀器設(shè)備的供應(yīng)商。

◆ 2008 年, 自主研發(fā)生產(chǎn)石墨電熱板以來, 先后研發(fā)生產(chǎn)酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實驗儀器設(shè)備, 從此走上研發(fā)生產(chǎn)專業(yè)化道路。

◆ 2010 年,掌握了等離子核心技術(shù),自主研發(fā)生產(chǎn)科研型等離子清洗機系列產(chǎn)品。

◆ 2014 年, 在中國注冊成立華儀行(北京) 科技有限公司, 正式進入中國市場, 部分儀器設(shè)備研發(fā)、制造業(yè)務(wù)移至中國。

◆ 2015 年,自主研發(fā)生產(chǎn)專為處理粉體樣品而設(shè)計轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機。

◆ 2017 年,自主研發(fā)生產(chǎn)紫外臭氧清洗機系列產(chǎn)品。

◆ 2018 年,在中國成注冊立賽福儀器承德有限公司,將研發(fā)制造業(yè)務(wù)全部移至中國。

◆ 2019 年,電鏡專用遠程等離子清洗機研發(fā)成功。

◆ 2021 年,自主研發(fā)生產(chǎn)中試、生產(chǎn)型等離子清洗系列產(chǎn)品,完善了等離子產(chǎn)品線。

◆ 2023 年,科研型等離子去膠機、RIE 蝕刻機研發(fā)成功。


公司專注材料表面處理技術(shù):

◆ 改性(等離子清洗機、紫外臭氧清洗機)                   ◆ 去膠(等離子去膠機)

◆ 蝕刻(等離子刻蝕機)                                              ◆ 涂層(等離子濺射鍍膜機、勻膠機、烤膠機)

企業(yè)愿景:

致力于為全球用戶提供專業(yè)的表面處理整體解決方案。

企業(yè)使命:

CIF與我們的員工、客戶乃至商業(yè)伙伴在內(nèi)的所有人,同呼吸,共命運,共同成長,共同發(fā)展,共同成就夢想!


半導(dǎo)體領(lǐng)域儀器設(shè)備:等離子清洗機、紫外臭氧清洗機、勻膠機、烤膠機等。 理化實驗室儀器設(shè)備:酸蒸逆流清洗器、真空趕酸系統(tǒng)、酸純化器、智能消解儀、恒溫電熱板等

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 5萬-10萬
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,化工

CIF勻膠機

 

CIF勻膠機轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動迅速,旋涂均勻,操作簡單,結(jié)構(gòu)緊湊實用,為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué),硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

勻膠機產(chǎn)品特點

采用閉環(huán)控制伺服電機,數(shù)字式增速信號反饋,速勻準確,壽命長,保證勻膠均勻。

5寸全彩觸摸屏,智能程序化可編程操控顯示,標配10個勻膠梯度階段(速度和時間梯度設(shè)置)可選配10個可編程程序,每個程序下可設(shè)置10個勻膠梯度階段,多100個階段。

內(nèi)置水平校準裝置,大限度的保證旋涂均勻,可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。

多重安全保護

電磁安全開關(guān),蓋子打開卡盤停止,保證安全;

蓋子自鎖功能,防止飛片蓋傷人;

雙重安全上蓋聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,大限度保證實驗人員安全。

一機兩用,根據(jù)不同樣品可選真空盤和非真空卡盤兩種旋涂模式。

不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體,PTFE旋涂腔體,聚丙烯(NPP-H)旋涂托盤,PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋,耐酸堿防腐蝕,保證儀器苛刻條件下能正常運行

適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs,GaN,InP 等多種材料。

勻膠機技術(shù)參數(shù)

 

型號

轉(zhuǎn)速(轉(zhuǎn)/分)

轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度

勻膠時間

旋涂基片尺寸mm

外型尺寸(LxWxH)mm

SC1

50-10000

±1%

0-2000S

圓片Φ5-Φ100,方片大100x100

310x260x250


勻膠機使用注意事項:
(1)在旋轉(zhuǎn)涂膠中,轉(zhuǎn)速是最重要的因素之一,通常決定了最終的膠膜厚度。較小的速度變化就能導(dǎo)致膠膜厚度較大的變化。旋轉(zhuǎn)速度過高或過低都會使基片涂膠失敗。因此提供勻膠轉(zhuǎn)速用的電機控制精度要求非常高。
 
(2)加速度對涂膠的均勻性有著重要的影響。在涂膠環(huán)節(jié)的一部分,膠液開始變干,準確地控制加速度十分重要,膠液中50%的溶劑在加速過程中汽化蒸發(fā)。旋轉(zhuǎn)過程提供了一個離心力(向外)給膠液,加速度提供給膠液扭曲力,此力使膠液均勻通過和覆蓋基本表面。最終形成的膠膜均勻性與適當?shù)募铀俣让芮邢嚓P(guān)。
 
(3)涂膠工藝受到腔體環(huán)境(排風、氣流等)的影響。在涂膠過程中膠液的揮發(fā)烘干速度取決于液體本身的自然屬性,也受到涂膠過程中晶圓片周圍空氣情況的影響。涂膠過程中特別重要的一點是涂膠腔體內(nèi)氣體的流動和與之相關(guān)的亂流要減到最小。通過腔體的排風系統(tǒng)可以減少不希望的亂流,這樣可以使液體凝固速度減緩,同時使對外界溫濕度的敏感性減少。
 
(4)膠液的準確供應(yīng)對提高成品率及降低成本有很重要的意義。膠液不足造成無法覆蓋全片,太多則對膠膜質(zhì)量有影響且造成浪費。


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