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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設(shè)備>恒溫/加熱/干燥>其它干燥設(shè)備> CVD管式爐

CVD管式爐

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天津中環(huán)電爐股份有限公司成立于1993年,坐落于天津市北辰經(jīng)濟開發(fā)區(qū),公司是集研發(fā)、制造、營銷于一體的生產(chǎn)制造型高新技術(shù)企業(yè),以實驗室電爐、工業(yè)電爐及熱分析儀器為產(chǎn)品核心,其中實驗室電爐280余種,工業(yè)爐2大系列,熱分析類儀器30余種。在科研院所、各大高校和重點領(lǐng)域企業(yè)累計用戶上萬家。公司產(chǎn)品主要應(yīng)用于金屬材料、特種陶瓷、復(fù)合材料、半導(dǎo)體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料領(lǐng)域。
2017年中環(huán)電爐成功登陸全國中小企業(yè)股份轉(zhuǎn)讓系統(tǒng)(證券代碼:872594)。








接觸角測量儀,超快高溫?zé)Y(jié)爐,馬弗爐,箱式電爐,管式爐,排膠爐,鐘罩爐,PECVD系統(tǒng),CVD系統(tǒng)

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,電子,冶金

CVD管式爐此款CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)等實驗。

產(chǎn)品組成:

此款CVD系統(tǒng)配置:

1.1200度開啟式真空管式爐(可選配單溫區(qū)、雙溫區(qū))。

2.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

3.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)    

CVD管式爐產(chǎn)品特點:

1 控制電路選用模糊PID程控技術(shù),該技術(shù)控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。

2 氣路快速連接法蘭結(jié)構(gòu)采用本公司*的知識產(chǎn)權(quán)設(shè)計,提高操作便捷性。

3 中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統(tǒng)采用高壓強,耐沖擊分子泵防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統(tǒng)使用壽命。

技術(shù)參數(shù):

系統(tǒng)名稱

1200℃單/雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)

系統(tǒng)型號

CVD-12II-3Z/G

CVD-12II6-3Z/G

極限溫度

1200℃

加熱區(qū)長度

420mm

600mm

恒溫區(qū)長度

280mm

390mm

溫區(qū)

雙溫區(qū)

雙溫區(qū)

石英管管徑

Φ50/Φ60/Φ80mm

Φ80/Φ100mm

額定功率

3.2Kw

4.8Kw

額定電壓

220V

溫度控制

國產(chǎn)程序控溫系統(tǒng)50段程序控溫;

控制精度

±1℃

爐管極限工作溫度

<1200℃

氣路法蘭

密封法蘭與管件連接的地方采用多環(huán)密封技術(shù),在密封法蘭與管外壁間形成了密封,在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效,該密封法蘭的安裝只需在*使用設(shè)備的時候安裝

氣體控制方式

質(zhì)量流量計

氣路數(shù)量

3路(可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量)

流量范圍

0-500sccm(標準毫升/分,可選配)氮氣標定

精度

±1%F.S

響應(yīng)時間

≤4sec

工作溫度

5-45℃

工作壓力

進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力)

系統(tǒng)連接方式

采用KF快速連接波紋管、高真空手動擋板閥及數(shù)顯真空測量儀

規(guī)格

高真空

系統(tǒng)真空范圍

1x10-3Pa-1x10-1Pa

真空泵

真空分子泵理論極限真空度5x10-6Pa抽氣速度1200L/S額定電壓220V    功率2KW

真空分子泵理論極限真空度5x10-6Pa抽氣速度1600L/S額定電壓220V  功率2KW





爐體外形尺寸

340×580×555mm

480×770×605mm

系統(tǒng)外形尺寸

530x1440x750mm(不含高真空)

系統(tǒng)總重量

330kg





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