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Atonarp 質(zhì)譜分析儀 Aston™ 半導體 CVD / ALD 應用
上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston™ 專為半導體生產(chǎn)而設(shè)計, 作為一個強大的平臺, Aston™ 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供半導體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產(chǎn)中的氣體偵測分析, 實現(xiàn)尾氣在線監(jiān)控, 診斷并在一系列應用中提供控制水平, 適用于光刻, 電介質(zhì)和導電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.

Aston™ 質(zhì)譜分析儀耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液, 能夠在半導體生產(chǎn)遇到的惡劣工況下可靠運行, 與傳統(tǒng)質(zhì)量分析儀相比, 使用 Aston™ 的維修間隔更長. 它包括自清潔功能, 可消除由于某些工藝中存在的冷凝物沉積而導致的污垢積累.

Aston™ 質(zhì)譜分析儀 CVD 典型應用: Dry pump 干泵排氣在線監(jiān)測,診斷
在惡劣的 CVD 環(huán)境中, Aston™ 利用可操作的數(shù)據(jù)預測和預防因 PV-CVD 干泵引起的災難性故障, 能夠?qū)ζ茐男愿g或沉積進行預測建模, 優(yōu)化氮氣吹掃成本.
適用場景: 多個腔室連接到1個干泵, 高濃度的電介質(zhì)會導致災難性的泵故障 (一次損失 10-100 片的晶圓)



通過使用上海伯東 Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston™ 可以提高半導體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率, 此款質(zhì)譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進行安裝, 也可將其加裝到已運行的現(xiàn)有腔室, 可在短時間內(nèi)實現(xiàn)晶圓更高產(chǎn)量!

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半導體排氣在線監(jiān)測質(zhì)譜分析儀
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