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NLD-570 刻蝕機(jī)

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產(chǎn)品標(biāo)簽

刻蝕機(jī)

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半導(dǎo)體設(shè)備

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 能源

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
研究開(kāi)發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570,是搭載了愛(ài)發(fā)科開(kāi)創(chuàng)的磁性中性線(NLD- neutral loop discharge)等離子源的裝置,此NLD技術(shù)可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。。                                     

產(chǎn)品特性:
NLD用于與ICP方式相比更低壓、高密度、更低電子溫度等離子體的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工

•   高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不純物的多種玻璃加工,在形狀或表面平滑性方面有優(yōu)異的刻蝕性能

•   石英及玻璃作為厚膜resist mask時(shí)的也可實(shí)現(xiàn)深度刻蝕(100μ m以上)

•   可實(shí)現(xiàn)高速刻蝕(石英>1μ m/min、Pyrex>0.8μ m/min)

•   可追加cassette室

產(chǎn)品應(yīng)用:
• 光學(xué)器件(光衍射格子、変調(diào)器、光開(kāi)關(guān)等等)、凹凸型微透鏡    

• 流體路徑作成或光子學(xué)結(jié)晶



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