合金分析 廣安日本手持光譜儀|便攜式分析儀
| 參考價(jià) | ￥ 100000 |
| 訂貨量 | ≥1 臺(tái) |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 巴斯德儀器（蘇州）有限公司
- 品牌 OLYMPUS/奧林巴斯
- 型號(hào) 合金分析
- 產(chǎn)地 美國(guó)馬薩諸塞州
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/8/5 21:08:19
- 訪問(wèn)次數(shù) 2024
產(chǎn)品標(biāo)簽
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| 價(jià)格區(qū)間 | 10萬(wàn)-30萬(wàn) | 行業(yè)專用類型 | 電子產(chǎn)品 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 手持式/便攜式 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,地礦,能源,建材 |
| 重復(fù)性 | 3s |
廣安日本手持光譜儀|便攜式分析儀Vanta-手持金屬鍍層光譜分析儀技術(shù)規(guī)格
廣安日本手持光譜儀|便攜式分析儀
| 1.1外型尺寸（寬 × 高 × 厚） | 8.3 × 28.9 × 24.2 cm |
|---|---|
| 2.重量 | 手持式光譜儀帶電池時(shí)1.70公斤；不帶電池時(shí)1.48公斤。 |
| 3.激勵(lì)源 | 4瓦特X射線管，其根據(jù)不同應(yīng)用而優(yōu)化的陽(yáng)材料包括銠（Rh）、銀（Ag）和鎢（W）。 M系列Vanta手持(XRF)金屬鍍層光譜儀（Rh和W）和C系列（Ag）：8 ～ 50 kV C系列手持式光譜儀（Rh和W）：8 ～ 40 kV L系列Vanta手持(XRF)金屬鍍層光譜儀 |
| 4.主光束過(guò)濾 | 每個(gè)模式每條光束有8個(gè)位置的自動(dòng)選擇過(guò)濾器。 |
| 5.探測(cè)器 | M系列Vanta手持(XRF)金屬鍍層光譜儀：大區(qū)域硅漂移探測(cè)器 C系列手持式光譜儀：硅漂移探測(cè)器 |
| 6.電源 | 可拆裝的14.4 V鋰離子電池或 18 V電源變壓器，100 ～ 240 VAC，50 ～ 60 Hz, 大70 W |
| 7.顯示 | 800 × 480 (WVGA)液晶電容式觸摸屏，可使用手指進(jìn)行控制 |
| 8.操作環(huán)境 | 溫度：–10 °C ～ 50 °C（帶可選風(fēng)扇時(shí)，可連續(xù)工作）。 濕度：相對(duì)濕度為10 % ～ 90 %，無(wú)冷凝。廣安日本手持光譜儀|便攜式分析儀 |
| 9.墜落測(cè)試 | 通過(guò)了美軍標(biāo)準(zhǔn)810-G的1.3米高墜落測(cè)試。 |
| 10.IP評(píng)級(jí) | IP65*：防塵，而且可防止來(lái)自各個(gè)方向的水噴。 |
| 11.1壓力校正 | 內(nèi)置氣壓計(jì)，用于海拔和空氣密度的自動(dòng)校正。 |
| 12.GPS | 嵌入式GPS/GLONASS接收器 |
| 13.操作系統(tǒng) | Linux |
| 14.數(shù)據(jù)存儲(chǔ) | 4 GB嵌入存儲(chǔ)，帶有microSD卡插槽，可擴(kuò)展存儲(chǔ)容量。 |
| 15.USB | 兩個(gè)USB 2.0 A型主端口，用于諸如Wi-Fi、藍(lán)牙和USB閃存驅(qū)動(dòng)盤等配件。 一個(gè)USB 2.0袖珍B型端口，用于連接計(jì)算機(jī)。 |
| 16.Wi-Fi | Vanta手持(XRF)金屬鍍層光譜儀通過(guò)可選購(gòu)USB適配器，支持802.11 b/g/n（2.4 GHz）。 |
| 17.藍(lán)牙 | Vanta手持(XRF)金屬鍍層光譜儀通過(guò)可選購(gòu)USB適配器，支持藍(lán)牙和藍(lán)牙低能功能。 |
| 18.瞄準(zhǔn)攝像頭 | 全VGA CMOS攝像頭Vanta手持(XRF)金屬鍍層光譜儀 |
| 19.全景攝像頭 | 5百萬(wàn)像素CMOS攝像頭，帶自動(dòng)聚焦透鏡。 |
廣安日本手持光譜儀|便攜式分析儀 設(shè)計(jì)岀的一款性能高的Vanta手持(XRF)金屬鍍層光譜儀。適用于鍍層厚度測(cè)量及材料分析，具有無(wú)損，可靠，高生產(chǎn)力，高靈活性等優(yōu)點(diǎn)，可用來(lái)定性分析樣品的元素組成，也可用于鍍層和鍍層系統(tǒng)的厚度測(cè)量，廣泛應(yīng)用于電路板、半導(dǎo)體、電鍍、五金產(chǎn)品、汽車零部件、衛(wèi)浴潔具、珠寶等工業(yè)中的功能性鍍層電鍍槽液中的成分濃度分析。
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