JW-HS2001 廣東恒定濕熱試驗(yàn)箱
- 公司名稱 創(chuàng)岑儀器設(shè)備(上海)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) JW-HS2001
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2023/11/8 13:01:25
- 訪問次數(shù) 665
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產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子,電氣 |
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JW-HS2001廣東恒定濕熱試驗(yàn)箱產(chǎn)品用途:
本系列產(chǎn)品系環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備,適用于各種小型電器、儀表、材料及元件等濕熱試驗(yàn);采用合理的結(jié)構(gòu)和穩(wěn)定可靠的控制方式,外形美觀,操作簡(jiǎn)便、安全,溫濕度控制精度高,是做恒定濕熱試驗(yàn)的理想設(shè)備。本系列產(chǎn)品符合GB/T2423.2,GB/T2423.3,GJB150.3,GJB150.4。
廣東恒定濕熱試驗(yàn)箱性能特點(diǎn):
■ 外殼為優(yōu)質(zhì)薄鋼板,表面噴塑,內(nèi)膽均為不銹鋼薄板制作;
■ 智能數(shù)顯溫、濕度控制儀表,具有工作時(shí)間累計(jì)功能;
■ 配有進(jìn)口全封閉冷凍機(jī)組;
■ 加濕水盤有缺水保護(hù)功能;
■ 具有漏電保護(hù)、超溫報(bào)警、超溫保護(hù)功能。
性能指標(biāo):
溫度范圍 | 0℃~100℃ |
濕度范圍 | 30~95% R·H |
波動(dòng)/均勻度 | ≤±0.5℃ /±2℃ |
溫度偏差 | +2%、-3%R·H |
升溫時(shí)間 | 0℃~100℃約30min |
控制溫度 | ±1℃ ±2% |
溫濕度運(yùn)行控制系統(tǒng):
控制器 | 進(jìn)口微電腦濕溫度集成控制器(溫度直接顯示百分?jǐn)?shù)) |
精度范圍 | 設(shè)定精度:溫度±0.1℃、濕度±0.1%R·H,指示精度:溫度± 0.1℃、溫度±0.1%R·H |
溫濕度傳感器 | 鉑鉑金電阻·PT100Ω |
加熱系統(tǒng) | *獨(dú)立系統(tǒng),鎳鉻合金電加熱式加熱器 |
加濕系統(tǒng) | 外置隔離式,全不銹鋼鍋爐式淺表面蒸發(fā)式加濕器 |
循環(huán)系統(tǒng) | 耐溫低噪音空調(diào)型電機(jī),多葉式離心風(fēng)輪 |
符合標(biāo)準(zhǔn)GB/T2423.3-2006
結(jié)構(gòu)及部件:
內(nèi)外箱材質(zhì):內(nèi)箱-USU#304鏡面不銹鋼板;
外箱- SUS #304沙紋不銹鋼板噴涂;
保溫材質(zhì):硬質(zhì)聚胺脂發(fā)泡+玻璃棉;
控制器:P計(jì)裝,上海PZ數(shù)顯按鍵控制器;
主要配置均采用意大利、丹麥或日本部件;
冷凍系統(tǒng):丹麥全封閉式壓縮機(jī)/環(huán)保冷媒;
保護(hù)裝置:壓縮機(jī)過熱,過流,超壓,加熱加濕空焚,箱內(nèi)起溫,缺水報(bào)警系統(tǒng);
電源:ф3W220VAC±10%。
安裝及操作準(zhǔn)備:
1、本設(shè)備應(yīng)離墻壁及相鄰設(shè)備大于500mm以上(便于排熱),臺(tái)式試驗(yàn)箱后背距離墻壁應(yīng)不小于250mm(此種說明為臺(tái)式機(jī));
2、本設(shè)備應(yīng)安裝在通風(fēng)良好,周圍無腐蝕性氣體的平整地上;
3、本設(shè)備試驗(yàn)用水為去離子水或蒸餾水,試驗(yàn)前應(yīng)先在箱體后側(cè)面底部水箱中加滿水(抽屜式-拉開,后側(cè)電控柜上部指示燈為水滿指示),水會(huì)自動(dòng)加入試驗(yàn)箱內(nèi)加濕器中;
4、箱體附近應(yīng)有下水道,以便排水;
5、將配好的濕球紗布掛于濕球傳感器上,長(zhǎng)度為兩邊均放于濕球水槽為宜(掛之前先將濕球紗布浸濕,濕球水槽位于箱體內(nèi)右上側(cè));
6、濕球水槽水位調(diào)節(jié),此種調(diào)節(jié)為水平調(diào)節(jié)。工作室中濕球水槽水位太高,可將試驗(yàn)箱電控柜內(nèi)相同位置處水位器下調(diào),反之則上調(diào)。(本項(xiàng)工作已在出廠前調(diào)好,但以免運(yùn)輸途中震動(dòng)而改變位置在試驗(yàn)前應(yīng)觀察好,以水不漏出濕球水槽為限);(加濕器水位調(diào)節(jié)也是如此,加濕器位于試驗(yàn)箱內(nèi)側(cè)底部)
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