反射膜厚儀可在幾秒鐘內(nèi)完成高精度的薄膜厚度測(cè)量，實(shí)現(xiàn)便捷高效的無(wú)損測(cè)量。其基本原理是：光源發(fā)出的光經(jīng)光纖導(dǎo)出后照射在樣品表面，樣品表面與基底反射的光產(chǎn)生干涉，通過(guò)其相位變化與波程差可測(cè)量薄膜厚度及光學(xué)常數(shù)。相比于其他的薄膜厚度測(cè)量?jī)x器，具有經(jīng)濟(jì)適用，構(gòu)造及維護(hù)簡(jiǎn)單，使用方便等優(yōu)點(diǎn)。

F20反射膜厚儀單點(diǎn)測(cè)量系統(tǒng)

樣品要求：透明或半透明薄膜

薄膜厚度：1nm~3mm

基底（厚度測(cè)量）：表面光滑，可反射光線(xiàn)

基底（光學(xué)常數(shù)測(cè)量）：平整，鏡面反射

可測(cè)量多層薄膜樣品

膜厚、折射率和消光系數(shù)

設(shè)定掃描圖案，自動(dòng)測(cè)量，速度2point/s

內(nèi)置多種圖案，用戶(hù)可自建掃描圖案

全自動(dòng)XY工作臺(tái)

F30在線(xiàn)厚度測(cè)量系統(tǒng)

測(cè)量速度快，可實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜沉積生長(zhǎng)情況

測(cè)量沉積率、沉積層厚度、光學(xué)常數(shù) (n 和 k 值) 和半導(dǎo)體以及電介質(zhì)層的均勻性

精度＜±1%

非接觸式測(cè)量，可以在沉積室進(jìn)行測(cè)量