NANOTRAC WAVE II Zeta電位及納米粒度分析儀
- 公司名稱(chēng) 深圳市錫成科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) NANOTRAC WAVE II
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/8/7 16:13:59
- 訪問(wèn)次數(shù) 828
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臺(tái)階儀，光學(xué)輪廓儀，電化學(xué)工作站，納米壓痕儀，力電聯(lián)測(cè)材料試驗(yàn)機(jī)，介電溫譜測(cè)量系統(tǒng)，電阻測(cè)試儀，原子力顯微鏡，光學(xué)顯微鏡
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 分散方式 | 干濕法分散 |
|---|---|---|---|
| 價(jià)格區(qū)間 | 50萬(wàn)-60萬(wàn) | 儀器種類(lèi) | 動(dòng)態(tài)光散射 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
NANOTRAC WAVE II Zeta電位及納米粒度分析儀采用先進(jìn)的“Y”型光纖探針光路設(shè)計(jì)，配置膜電極產(chǎn)生微電場(chǎng)，操作簡(jiǎn)單，測(cè)量迅速。
無(wú)需精確定位由于電泳和電滲等效應(yīng)導(dǎo)致的靜止層，無(wú)需外加大功率電場(chǎng)，無(wú)需更換分別用于測(cè)量粒度和Zeta電位的樣品池，消除由于空間位阻（不同光學(xué)元器件間的傳輸損失，比色皿器壁的折射和污染，比色皿位置的差異，分散介質(zhì)的影響，顆粒間多重散射等）帶來(lái)的光學(xué)信號(hào)的損失，結(jié)果準(zhǔn)確可靠，重現(xiàn)性好。
Zeta電位及納米粒度分析儀技術(shù)參數(shù)
測(cè)量原理：動(dòng)態(tài)光散射法
Zeta電位測(cè)量：膜電極設(shè)計(jì)與“Y”型探頭形成微電場(chǎng)測(cè)量電泳遷移率
分子量測(cè)量：水力直徑或德拜曲線
測(cè)量范圍：0.3 nm - 10 µm
檢測(cè)角度：180°
重復(fù)性：±1%
Zeta電位范圍：-200mV~+200mV
Zeta粒徑范圍：10nm~20μm
電泳遷移范圍：0 - 15 (µm/s) / (V/cm)
電導(dǎo)率范圍：0 - 10 mS / cm
分子量范圍：<300 da="" -="">20 x 106 Da
控溫范圍：+4°C ~ +90°C
溫度精度：±0.1℃
Zeta測(cè)量重復(fù)性：±3%
Nanotrac Flex：180°動(dòng)態(tài)光背散射
Nanotrac Wave II：動(dòng)態(tài)光背散射
粒徑與粒形分析方法
| 方法名稱(chēng) | 激光衍射 | 動(dòng)態(tài)光散射 | 動(dòng)態(tài)圖像分析 | 靜態(tài)圖像分析 |
| 測(cè)量范圍 | 10nm-4000μm | 1nm-6500nm | 0.8μm-135mm | 0.5μm-1500mm |
| 尺寸計(jì)算方法 | 間接/來(lái)自光散射圖案 | 間接/來(lái)自布朗運(yùn)動(dòng) | 直接/來(lái)自顆粒圖像 | |
| 單個(gè)粒徑分析 | 無(wú) | 無(wú) | 有 | 有 |
| 測(cè)量速度 | 10-60秒 | 30-180秒 | 2-5分鐘 | 10-60分鐘 |
| 粒形分析 | √（SYNC型除外） | × | √ | √ |
| 濕性分析 | √ | √ | √ | √ |
| 干性分析 | √ | × | √ | √ |
| Zeta電位&分子量 | × | √ | × | × |
| 優(yōu)勢(shì) | 效率、樣品多樣性、重復(fù)性 | 納米材料分析，濃度范圍寬 | 效率、樣品多樣性、重復(fù)性、高精度、高分辨、參數(shù)多樣性 | 精度的形貌測(cè)量 |
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