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RIE-400iP 等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
  • 品牌 SAMCO
  • 型號(hào) RIE-400iP
  • 產(chǎn)地 日本
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間 2024/9/6 14:30:06
  • 訪問(wèn)次數(shù) 347

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

RIE-400iP是用于?4 "晶圓的負(fù)載鎖定型蝕刻系統(tǒng),可對(duì)各種半導(dǎo)體和絕緣膜進(jìn)行高精度、高均勻性加工。采用的龍卷風(fēng)線圈的電感耦合等離子體(Inductively Coupled Plasma)作為放電形式,可產(chǎn)生均勻、高密度的等離子體。另外,可以根據(jù)加工材料和加工內(nèi)容選擇合適的等離子體源。

2. 設(shè)備用途/原理

GaN、GaAs、InP等化合物半導(dǎo)體的高精度蝕刻。生產(chǎn)半導(dǎo)體激光器和光子晶體。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"可高效穩(wěn)定地應(yīng)用高射頻功率(2千瓦以上),并實(shí)現(xiàn)良好的均勻性。大流量排氣系統(tǒng),排氣系統(tǒng)直接連接到反應(yīng)室,可以實(shí)現(xiàn)從小流量和低壓范圍到大流量和高壓范圍的廣泛工藝窗口。端點(diǎn)監(jiān)測(cè),干涉法和發(fā)射光譜終點(diǎn)監(jiān)測(cè)儀可用于目標(biāo)薄膜厚度的終點(diǎn)檢測(cè)。易于維護(hù)的設(shè)計(jì),TMP(渦輪分子泵)已集成在一個(gè)單元中,便于更換


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