化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>干法工藝設(shè)備>等離子體刻蝕設(shè)備>Herent® Chimera® M 12英寸金屬刻蝕設(shè)備
Herent® Chimera® M 12英寸金屬刻蝕設(shè)備
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 魯汶
- 型號(hào) Herent® Chimera® M
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/9/4 16:29:23
- 訪問(wèn)次數(shù) 292
產(chǎn)品標(biāo)簽
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1. 系統(tǒng)特性
Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設(shè)備是面向12英寸集成電路制造的量產(chǎn)型設(shè)備
設(shè)備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch chamber）、去膠腔（strip chamber）、傳輸模塊（transfer module）構(gòu)成
適用于0.18微米及其他技術(shù)代邏輯應(yīng)用中的高密度鋁導(dǎo)線工藝，以及鋁墊刻蝕
2. 詳細(xì)介紹
Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設(shè)備，為針對(duì)12英寸IC產(chǎn)業(yè)0.18微米以下后道高密度鋁導(dǎo)線互連工藝所開(kāi)發(fā)的用產(chǎn)品， 同時(shí)也可應(yīng)用于鋁墊（Al pad）刻蝕。該設(shè)備承襲了 Chimera® A 的先進(jìn)設(shè)計(jì)理念，具有出色的均勻性調(diào)控手段， 可以為客戶提供高性價(jià)比的解決方案
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