納米壓痕儀產(chǎn)品特點(diǎn)

可互換傳感技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了更大范圍(10mNx500 mN、3.5N和150μ.m)的原位納米力學(xué)測(cè)試和微尺度力學(xué)測(cè)試

載荷和位移控制測(cè)試模式,可進(jìn)行納米壓痕、壓縮、 拉伸、疲勞或彎曲測(cè)試

采用全新編碼樣品臺(tái)技術(shù)(1 nm分辨率)，可以在納米晶粒 內(nèi)部進(jìn)行壓痕操作

提供旋轉(zhuǎn)/傾斜臺(tái)兩種配置，從而在進(jìn)行納米力學(xué)測(cè)試、二次電子成像、原位FIB加工和分析成像等操作時(shí)，樣品定位能力進(jìn)一步提高

采用不過時(shí)的模塊化設(shè)計(jì),原位測(cè)試相關(guān)技術(shù)得以不斷升級(jí)，包括800℃加熱、劃痕測(cè)試、電特性、掃描探針顯微鏡 (SPM)成像、力學(xué)性能成像(XPM)及動(dòng)態(tài)疲勞測(cè)試等技術(shù)

配備PerformechII控制模塊，反饋頻率達(dá)到78 kHz, 數(shù)據(jù)采集頻率達(dá)到39 kHz,可以捕捉斷裂引發(fā)等瞬時(shí)事件

功能齊全

Hysitron PI 89可以輕松安裝到掃描電子顯微鏡臺(tái)上,不需 要一直固定在顯微鏡上。其設(shè)計(jì)小巧，大幅增加物臺(tái)傾斜 度、縮短工作距離,確保測(cè)試期間實(shí)現(xiàn)佳成像。

PI89平臺(tái)經(jīng)過改裝，在系統(tǒng)的樣品位置增加了一個(gè)滑移臺(tái)。該設(shè)計(jì)可方便快速地調(diào)整樣品相對(duì)于傳感器的位置,并可配置可更換壓頭、樣品和其它附加裝置。

同時(shí)擴(kuò)大了可用空間，可以容納更大的樣品、附加樣品臺(tái)和新的配件。

此外,選用新的直線編碼樣品臺(tái),可以提高自動(dòng)運(yùn)動(dòng)中的 重復(fù)性，同時(shí)擴(kuò)大行程范圍。通過重新設(shè)計(jì)機(jī)械載荷架軸，提升了框架剛度。