膜厚量測儀 FE-300
- 公司名稱 上海波銘科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 OTSUKA/日本大塚
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/1/23 12:12:13
- 訪問次數(shù) 444
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光學(xué)測試系統(tǒng);光源/激光器;光譜儀;光電探測器;電子數(shù)據(jù)采集器;光學(xué)平臺;電動位移臺;手動位移臺;調(diào)整架;光學(xué)元件
產(chǎn)品信息
特殊長度
●支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度
●使用反射光譜分析薄膜厚度
●實現(xiàn)非接觸、非破壞的高精度測量,同時體積小、價格低
●簡單的條件設(shè)置和測量操作!任何人都可以輕松測量薄膜厚度
●通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等,可以進行多種膜厚測量。
●非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學(xué)常數(shù)分析(n:折射率,k:消光計數(shù))。
測量項目
絕對反射率測量
膜厚分析(10層)
光學(xué)常數(shù)分析(n:折射率,k:消光計數(shù))
測量對象
功能膜、塑料
透明導(dǎo)電膜(ITO、銀納米線)、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、膠粘劑、保護膜、硬涂層、防指紋, 等等。
半導(dǎo)體
化合物半導(dǎo)體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍寶石等。
表面處理
DLC涂層、防銹劑、防霧劑等。
光學(xué)材料
濾光片、增透膜等。
FPD
LCD(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有機膜、封裝材料)等
其他
HDD、磁帶、建筑材料等
原理
測量原理
大冢電子利用光學(xué)干涉儀和自有的高精度分光光度計,實現(xiàn)非接觸、無損、高速、高精度的薄膜厚度測量。光學(xué)干涉測量法是一種使用分光光度計的光學(xué)系統(tǒng)獲得的反射率來確定光學(xué)膜厚的方法,如圖 2 所示。以涂在金屬基板上的薄膜為例,如圖1所示,從目標(biāo)樣品上方入射的光被薄膜表面(R1)反射。此外,穿過薄膜的光在基板(金屬)和薄膜界面(R2)處被反射。測量此時由于光程差引起的相移所引起的光學(xué)干涉現(xiàn)象,并根據(jù)得到的反射光譜和折射率計算膜厚的方法稱為光學(xué)干涉法。分析方法有四種:峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法和優(yōu)化法。
規(guī)格
類型 | 薄膜型 | 標(biāo)準(zhǔn)型 |
測量波長范圍 | 300-800nm | 450-780nm |
測量膜厚范圍 (SiO 2換算) | 3nm-35μm | 10nm-35μm |
光斑直徑 | φ3mm / φ1.2mm | |
樣本量 | φ200×5(高)mm | |
測量時間 | 0.1-10s內(nèi) | |
電源 | AC100V ± 10% 300VA | |
尺寸、重量 | 280 (W) x 570 (D) x 350 (H) 毫米,24 公斤 | |
其他 | 參考板,配方創(chuàng)建服務(wù) |
設(shè)備配置
光學(xué)家譜