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臺式光刻機

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臺式光刻機

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       江蘇雷博科學儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,是一家初期以高檔專業(yè)的實驗室儀器開發(fā)為目標的海歸創(chuàng)業(yè)企業(yè)。2020年8月,江蘇雷博科儀通過資源整合,將雷博科儀中發(fā)展起來的的工業(yè)半導體設備業(yè)務分拆出來成立了江蘇雷博微電子設備有限公司。兩家公司使用同一品牌 ,獨立經(jīng)營不同系列產(chǎn)品。公司主營高檔實驗室儀器及半導體設備開發(fā)業(yè)務。公司技術力量雄厚,人才濟濟,憑借雄厚的技術實力不斷進行新產(chǎn)品開發(fā)和創(chuàng)新實現(xiàn),在納米薄膜制備類儀器領域取得了顯著的市場地位。公司生產(chǎn)的高精度高可靠性勻膠機榮獲江蘇省高新技術產(chǎn)品,是國內(nèi)勻膠機全系列、多功能、定制化服務的供應商。
       公司生產(chǎn)和銷售不同領域的高檔科研儀器和工業(yè)半導體設備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設備品牌,主要有勻膠機、顯影機、烤膠機、提拉機、噴膠機、涂膜機、狹縫涂布機等相關產(chǎn)品;LEBO science®是我們的工業(yè)半導體設備品牌,主要有勻膠機、顯影機、蝕刻機、去膠機、清洗機等獨立柜式機臺及工業(yè)全自動機臺。
       公司產(chǎn)品被廣泛應用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽能、有機光電、MEMS、聲表、光通訊、化合物半導體及先進封裝等領域,具有核心技術可靠、高性價比、定制化服務的競爭優(yōu)勢。 

       公司目前團隊人數(shù)80多人,業(yè)績和規(guī)模處于快速擴展期,2013年起年銷售額一直保持快速增長,目前正準備二輪融資擴產(chǎn)。公司生產(chǎn)廠房設有裝配潔凈車間及黃光試驗區(qū),其中生產(chǎn)區(qū)域約1500平方米,辦公及倉儲區(qū)域約1000平方米。

勻膠機,烤膠機,涂膜機,狹縫涂布機,紫外清洗機,電解雙噴儀

  臺式光刻機參數(shù):
 
  1.最大曝光面積:160mm*160mm
 
 ?、?曝光分辨率:1u m(膠厚≤0.5um的正膠)
 
  3.對準精度:± 1um(標準晶圓拋光片)
 
  4.光源強度:35mW/cm2
 
  5.曝光波長:LED光源(進口燈珠,壽命>1萬小時)
 
  6.曝光方式:定時(倒計時方式)
 
  7.掩模樣片相對運動范圍:X:優(yōu)于±5mm;
 
  8.Y:優(yōu)于±5mm;0:優(yōu)于±6°
 
  9.掩模尺寸:7英寸,樣片規(guī)格:6英寸(晶圓片)
 
  10.數(shù)字設定對準間隙和曝光間隙
 
  11.掩模樣片分離間隙:6 =O-500um連續(xù)可調(diào)
 
  12.對準方式:自動對準,可根據(jù)客戶需求,增加對準標記的類型,累計不超過4組
 
  13.自動輸片:機械手自動輸片(專用樣片機械手臂及片叉),含預對準定位功能
 
  14.顯微掃描范圍:Y:± 40mm(數(shù)字設定)
 
  15.具備正壓氣浮曝光、硬接觸曝光、壓力接觸曝光,以及接近式曝光四種功能CCD+遠心鏡頭+顯示器對準,光學合像
 
  16.調(diào)平接觸壓力通過傳感器保證重復
 
  17.雙物鏡可調(diào)距離范圍:30mm-130mm
 


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