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微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京卓立漢光儀器有限公司
  • 品牌 ZOLIX/卓立漢光
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/11/26 17:26:44
  • 訪問(wèn)次數(shù) 528

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北京卓立漢光儀器有限公司是一家集光學(xué)、精密機(jī)械、電子、計(jì)算機(jī)技術(shù)于一體的高*技術(shù)企業(yè)。卓立漢光自1999年起,通過(guò)數(shù)年的不斷努力,成長(zhǎng)為光電儀器廠商之一。目前公司的電控位移臺(tái)、手動(dòng)位移臺(tái)、光學(xué)調(diào)整架等產(chǎn)品已經(jīng)形成產(chǎn)品系列化,規(guī)格多元化,國(guó)內(nèi)多家科研單位、激光加工設(shè)備廠商、光纖設(shè)備廠商在使用我們的產(chǎn)品。2000年推出我司套量產(chǎn)型三光柵光譜儀后,不斷推出了多套熒光、拉曼、光電探測(cè)器光譜響應(yīng)、太陽(yáng)能電池檢測(cè)等光譜測(cè)量系統(tǒng),廣泛應(yīng)用在眾多高校和科研院所的研究與試驗(yàn),為國(guó)家科技創(chuàng)新貢獻(xiàn)了一份力量,產(chǎn)品憑借優(yōu)良的品質(zhì)遠(yuǎn)銷歐美、東南亞等海外市場(chǎng)。 2005年10月在同行業(yè)中通過(guò)ISO9001質(zhì)量管理體系SGS認(rèn)證。2010年取得國(guó)家高*技術(shù)企業(yè)認(rèn)定,2016年卓立漢光技術(shù)中心順利通過(guò)市級(jí)技術(shù)中心評(píng)審。

 

卓立漢光主要生產(chǎn)經(jīng)營(yíng):熒光/拉曼光譜系統(tǒng)、各類光譜測(cè)量系統(tǒng)、太陽(yáng)能電池檢測(cè)儀器、光柵光譜儀、各類型光源及探測(cè)器、電控精密位移臺(tái)、手動(dòng)精密位移臺(tái)、光學(xué)調(diào)整架、光學(xué)平臺(tái)、光學(xué)元件等系列產(chǎn)品。


我們誠(chéng)心聆聽(tīng)用戶的需要與批評(píng),作為不斷改進(jìn)的動(dòng)力,能讓您滿意卓立漢光的產(chǎn)品及服務(wù),就是我們的成就。因此我們以卓立漢光的光機(jī)產(chǎn)品提供 “終身保固”的承諾,來(lái)表達(dá)我們對(duì)產(chǎn)品的信心。


我們堅(jiān)持從設(shè)計(jì)、零件選型、制造、裝配、檢驗(yàn)、包裝、運(yùn)輸、直到售后服務(wù)做好*質(zhì)量保證,就是要讓您 “付有所值”,以合理的價(jià)位得到優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品,這是我們對(duì)您選擇卓立漢光真誠(chéng)的回報(bào)。

卓立漢光始終以滿足用戶需求為宗旨,分別于上海、深圳、成都、西安設(shè)立分公司,為用戶提供及時(shí)周到的銷售與技術(shù)服務(wù)。“研發(fā)創(chuàng)新、快速反應(yīng)、優(yōu)質(zhì)服務(wù)” 是我們的經(jīng)營(yíng)理念, 公司長(zhǎng)期重視優(yōu)質(zhì)高效、短時(shí)間為客戶開(kāi)發(fā)產(chǎn)品及提供技術(shù)支持。卓立漢光真誠(chéng)地希望與國(guó)內(nèi)外同仁攜手合作,為推動(dòng)我國(guó)光電產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展做出貢獻(xiàn)。

 

 

 

光譜儀,拉曼光譜,熒光光譜,太陽(yáng)能電池檢測(cè),位移臺(tái),滑臺(tái),光學(xué)調(diào)整架,電動(dòng)滑臺(tái),光學(xué)平臺(tái),光學(xué)元件

產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,農(nóng)業(yè),電子,綜合

微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)

產(chǎn)品概述

磁光克爾測(cè)量技術(shù)主要通過(guò)探測(cè)光和磁性樣品相互作用后反射光的偏振態(tài)變化來(lái)研究材料的磁性,在超快磁光存儲(chǔ)領(lǐng)域有重要應(yīng)用,磁光克爾測(cè)量技術(shù)是一種無(wú)接觸光學(xué)測(cè)量技術(shù), 在單原子層微小樣品測(cè)量方面*具優(yōu)勢(shì),實(shí)現(xiàn)PPMS和SQUID無(wú)法完成的測(cè)量。微區(qū)磁光克爾系統(tǒng)是基于磁光克爾效應(yīng)的非接觸、非破壞可直接觀測(cè)磁性材料和器件中的磁化狀態(tài)的光學(xué)顯微成像設(shè)備,用于清晰直觀了解樣品內(nèi)的磁化狀態(tài)空間分布和時(shí)間演化。
北京卓立漢光儀器有限公司全新推出微區(qū)磁光克爾及磁圓二色測(cè)試系統(tǒng),可根據(jù)用戶需求提供定制化解決方案,產(chǎn)品范圍涵蓋微區(qū)磁光克爾系統(tǒng)和磁圓二色測(cè)試系統(tǒng),并可根據(jù)用戶需求升級(jí)拓展拉曼,熒光,熒光壽命及二次諧波(可選配電控偏振)等模塊,可用于檢測(cè)樣品表面磁性和磁疇結(jié)構(gòu),適用于磁性材料、二維鐵磁材料和自旋電子器件等應(yīng)用領(lǐng)域。

  • 非接觸,非破壞

  • 波長(zhǎng),偏振態(tài),角度分辨

  • 微區(qū)測(cè)量

  • 磁疇成像

系統(tǒng)結(jié)構(gòu)

磁光克爾顯微成像測(cè)試系統(tǒng)使用多路鎖相,同步采集,大幅抑制激光功率波動(dòng)噪聲。配置無(wú)磁反射式物鏡或單個(gè)非球面鏡成像,極低的法拉第效應(yīng)。使用光彈調(diào)制器,同步獲得MOKE與RMCD數(shù)據(jù)。產(chǎn)品從空間配置與鍍膜參數(shù)嚴(yán)格設(shè)計(jì)及檢測(cè)的光學(xué)元件組,保偏性能*佳。

微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)

主要配置清單

模塊

參數(shù)

主體架構(gòu)

主體尺寸:長(zhǎng) × 寬 × 高,約 600 mm × 600 mm × 550 mm;
高承重三維電控底座:步進(jìn)電機(jī)位移行程:行程:X*Y*Z 120*120*40 mm;XY最小步進(jìn)距離: 0.04 um, Z軸最小步進(jìn)距離:~0.01 um;最大負(fù)載:> 10 Kg;
鋁合金整體架構(gòu);
光路整體移動(dòng):1. 光路移出以更換樣品;2. 大范圍尋找待測(cè)區(qū)域。
靠近磁體部分采用無(wú)磁設(shè)計(jì);

顯微成像模塊

尺寸:長(zhǎng) × 寬 × 高,約 550 mm × 550 mm × 145 mm;
可見(jiàn)光相機(jī):20M pixels,15fps@5K ,50fps@1.8K, Sony 1 英寸CMOS;
物鏡: 適配磁體,無(wú)磁反射式物鏡或非球面透鏡;
照明光源: 科勒照明, LED面光源,亮度連續(xù)可調(diào);
成像模塊可電控完*移出光路,且不影響樣品面光斑位置。

MOKE&RMCD模塊

外殼尺寸:長(zhǎng) × 寬 × 高,約 550 mm × 550 mm × 145 mm;
包含所需的外置設(shè)備:鎖相放大器;
低噪聲前置放大探頭;
光彈調(diào)制器;
斬波器;
克爾角分辨率: ~0.5 mdeg  (~ 8.7mrad);
一次掃場(chǎng)同時(shí)獲得RMCD和MOKE數(shù)據(jù);
電控切換成像與測(cè)試;
電控功率;
Mapping功能,配合步進(jìn)掃描臺(tái),或低溫設(shè)備內(nèi)置壓電臺(tái)。

Raman532&PL&SHG模塊

外殼尺寸:長(zhǎng) × 寬 × 高,約 550 mm × 550 mm × 145 mm;
拉曼*低波數(shù):< 80 cm-1;
空間分辨率:300 nm (532 nm激光);
電控偏振掃描:起偏&檢偏,角度分辨率 0.0144 deg;
電控功率調(diào)整;
Mapping功能,配合步進(jìn)掃描臺(tái),或低溫設(shè)備內(nèi)置壓電臺(tái)。

532nm窄線寬激光器
MSL-U-532

中心波長(zhǎng):532nm+/-0.1
輸出功率:100mw
功率穩(wěn)定性:2%(4 小時(shí) RMS)
M2:<1.2
線寬:<0.00001nm
光斑模式:TEM00
噪聲:<0.5%

軟件

MOKE,RMCD,Raman,PL 掃描成像;
偏振掃描;
支持文本代碼輸入,以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化測(cè)試流程;

典型光路原理:

模塊化軟件界面:

微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)

可編程自動(dòng)化運(yùn)行界面:

微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)

典型數(shù)據(jù)和論文:


微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)


微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)

面掃描,磁疇成像,器件成像

微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)

本系統(tǒng)已發(fā)表論文:

[1] Huang X, et al. Nature Communications, 14(1): 2190.( 2023)
[2] Chen X, et al. Adv. Sci. 10, 2207617.( 2023)
[3] Dai H, et al. [J]. ACS nano, 16(8): 12437-12444.( 2022)
[4] Dai H, et al. [J]. ACS Appl. Mater. Interfaces 2021, 13, 24314?24320
[5] Zhang L, et al. Adv. Mater. 2020, 32, 2002032
[6] Wang M, et al. Nanoscale, 2020, 12, 16427.

可擴(kuò)展功能:

拉曼,熒光,熒光壽命及二次諧波

微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)

典型實(shí)測(cè)數(shù)據(jù):
偏振二次諧波:紅*納米帶

微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)

熒光壽命掃描(FLIM):Cs/FA/MA三陽(yáng)離子鈣鈦礦

微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)



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