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日立離子研磨裝置IM4000 II

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 日立科學(xué)儀器有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2025/2/25 22:04:45
  • 訪問次數(shù) 7

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  日立高新技術(shù)集團(tuán)的企業(yè)理念是“以成為先端技術(shù)領(lǐng)域里提供高科技解決方案的*為目標(biāo)”。在這個(gè)理念的指引下,將電子裝置系統(tǒng)、生命科學(xué)系統(tǒng)、信息電子系統(tǒng)、*產(chǎn)業(yè)材料系統(tǒng)等各個(gè)事業(yè)部門的“先端技術(shù)”推向世界的Z前線。

  為了應(yīng)對(duì)日新月異的技術(shù)革新和需求的多樣化,達(dá)成事業(yè)的化,日立高新技術(shù)集團(tuán)同時(shí)具有用先端技術(shù)開發(fā)制造新產(chǎn)品的制造功能和向提供優(yōu)化解決方案的貿(mào)易公司機(jī)能,是一家在先端科技領(lǐng)域里向*更快、更好地提供產(chǎn)品和服務(wù)的性企業(yè)。

  日立高新技術(shù)集團(tuán)Z重視的是在中國(guó)地區(qū)的事業(yè)戰(zhàn)略。我們?cè)谏虾?、北京、深圳、香港設(shè)立了獨(dú)資公司,這些地方分公司在中國(guó)的11個(gè)地區(qū)設(shè)有銷售和技術(shù)服務(wù)網(wǎng)點(diǎn)。同時(shí)在蘇州和大連還設(shè)有生產(chǎn)基地。日立高新技術(shù)集團(tuán)不但支持中國(guó)電子產(chǎn)業(yè)和高科技產(chǎn)業(yè)發(fā)展的半導(dǎo)體制造,而且提供各種解析設(shè)備,LCD制造和檢查設(shè)備,芯片貼裝設(shè)備等。在保障人民安全和健康的科學(xué)醫(yī)療領(lǐng)域,還提供各種解析、分析儀器及應(yīng)用相關(guān)系統(tǒng)等*開發(fā)產(chǎn)品和相應(yīng)的優(yōu)質(zhì)且完善的售后服務(wù)。此外,日立高新技術(shù)集團(tuán)從中國(guó)各地向*提供支持電子、高科技、汽車產(chǎn)業(yè)、環(huán)境和節(jié)能技術(shù)的各種新功能材料的采購(gòu)解決方案,通過靈活利用網(wǎng)絡(luò)和其貿(mào)易公司功能,實(shí)現(xiàn)創(chuàng)造附加價(jià)值的事業(yè)模式。

  日立高新技術(shù)中國(guó)實(shí)業(yè)集團(tuán)作為被大家所信賴的企業(yè),在遵紀(jì)守法的同時(shí),力爭(zhēng)創(chuàng)造新的價(jià)值,以“客戶*位為根本”開展工作,探求持續(xù)性發(fā)展,通過營(yíng)銷活動(dòng)為中國(guó)的高科技產(chǎn)業(yè)、環(huán)境及能源事業(yè)、社會(huì)基礎(chǔ)設(shè)施的安全、人民健康等方面的發(fā)展,不斷地做著積極的貢獻(xiàn)。衷心希望今后也能夠繼續(xù)得到大家的支持和厚愛。

熒光光譜,質(zhì)譜,液相色譜

簡(jiǎn)介
日立離子研磨裝置IM4000 II是一款集斷面加工和平面研磨功能于一體的混合儀器,適用于高分辨成像及樣品表面特性分析。該設(shè)備通過混合模式提供兩種研磨配置,采用新型離子槍設(shè)計(jì)提高了加工效率,與前代產(chǎn)品相比,橫截面研磨時(shí)間大幅減少,同時(shí)其可拆卸樣品臺(tái)設(shè)計(jì)方便了樣品設(shè)置和研磨邊緣定義。

日立離子研磨裝置IM4000 II 具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器!

  • 日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )混合模式帶有兩種研磨配置:
    斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
    平面研磨:將樣品表面均勻研磨5平方毫米,從不同角度有選擇地研磨,以便突出樣品的表面特性。

  • 日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )高通量能提高加工效率:
        與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設(shè)計(jì),減少了橫截面研磨時(shí)間。
    (參考加工速率:硅元素為300微米/小時(shí) — 加工時(shí)間減少了66%。

  • 日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )可拆卸樣品臺(tái)裝置:

    為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣,可將樣品臺(tái)裝置拆卸。


特點(diǎn)

 


  • 混合模式:兩種研磨配置
    斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面高分辨觀察
    平面研磨:不同角度有選擇地,大面積,均勻地研磨5 mm的平面,以突顯樣品的表面特性

  • 高效:提高加工效率
    與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設(shè)計(jì),減少了橫截面研磨時(shí)間
    (參考加工速度:硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時(shí)間減少了66%)

  • 可拆卸式樣品臺(tái):
    為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨,樣品臺(tái)設(shè)計(jì)為可拆卸型

 


 



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