X射線熒光光譜儀是一種快速的、非破壞式的物質測量方法。X射線熒光（X-rayfluorescence，XRF）是用高能量X射線或伽瑪射線轟擊材料時激發(fā)出的次級X射線。這種現(xiàn)象被廣泛用于元素分析和化學分析，特別是在金屬，玻璃，陶瓷和建材的調(diào)查和研究，地球化學，法醫(yī)學，考古學和藝術品，例如油畫和壁畫。

 

　　X熒光光譜儀的物理原理：

　　當材料暴露在短波長X光檢查，或伽馬射線，其組成原子可能發(fā)生電離，如果原子是暴露于輻射與能源大于它的電離勢，足以驅逐內(nèi)層軌道的電子，然而這使原子的電子結構不穩(wěn)定，在外軌道的電子會“回補”進入低軌道，以填補下來的洞。在“回補”的過程會釋出多余的能源，光子能量是相等兩個軌道的能量差異的。因此，物質放射出的輻射，這是原子的能量特性。

　　XRF用X光或其他激發(fā)源照射待分析樣品，樣品中的元素之內(nèi)層電子被擊出后，造成核外電子的躍遷，在被激發(fā)的電子返回基態(tài)的時候，會放射出特征X光；不同的元素會放射出各自的特征X光，具有不同的能量或波長特性。檢測器(Detector)接受這些X光，儀器軟件系統(tǒng)將其轉為對應的信號。這一現(xiàn)象廣泛用于元素分析和化學分析，特別是在研究金屬，玻璃，陶瓷和建筑材料，以及在地球化學研究、法醫(yī)學、電子產(chǎn)品進料品管（EURoHS）和考古學等領域，在某種程度上與原子吸收光譜儀互補，減少工廠附設的品管實驗室之分析人力投入。

　　X熒光光譜儀在化學分析：

　　主要使用X射線束激發(fā)熒光輻射。到了現(xiàn)在，該方法作為非破壞性分析技術，并作為過程控制的工具，廣泛應用于采掘和加工工業(yè)。原則上，輕的元素，可分析出鈹（z=4），但由于儀器的局限性和輕元素的低X射線產(chǎn)量，往往難以量化，所以針對能量分散式的X射線熒光光譜儀，可以分析從輕元素的鈉（z=11）到鈾，而波長分散式則為從輕元素的硼到鈾。

 

　　X熒光光譜儀的主要特點：

　　1、快速：得益于帕納科榮獲的光學部件和平臺PreFIX-即預校準光路的安裝方法，只需幾分鐘即可完成重新配置并執(zhí)行不同類型的分析。

　　2、前瞻性：如果出現(xiàn)新的應用，只需增加必要的模塊即可。開放式硬件設計結構確保了X'Pert Powder與將來X射線衍射方面的開發(fā)兼容。

　　3、靈活：無論是工業(yè)生產(chǎn)控制還是深入的材料研究，均可根據(jù)單獨的帶藥求進行定制。從未知物相鑒定和混合物定量，到諸如殘余應力和晶粒擇優(yōu)取向的微觀結構屬性測定，系統(tǒng)的應用不受任何限制，在所有領域都體現(xiàn)出高性能。在常溫或非環(huán)境溫度條件下，均可對塊狀材料以及薄膜進行分析。