目錄:孚光精儀(中國(guó))有限公司>>無損檢測(cè)儀器>>腐蝕檢測(cè)儀器>> FPMRC-TWD-EW-ONLINE蝕刻洗滌液比重檢測(cè)儀
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更新時(shí)間:2024-06-24 14:38:14瀏覽次數(shù):439評(píng)價(jià)
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供貨周期 | 一個(gè)月以上 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,能源 |
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蝕刻洗滌液比重檢測(cè)儀TWD-EW-ONLINE專業(yè)為溶液密度在線測(cè)定設(shè)計(jì)的在線比重密度分析儀器,廣泛用于三氯化鐵,氯化銅蝕刻,碳酸鈉水溶液,鹽酸與過氧化氫混合液、氫氧化鈉溶液洗滌槽及溶液密度,其他工業(yè)過程中的濃度控制。
蝕刻洗滌液比重檢測(cè)儀TWD-EW-ONLINE參照GB/T611、T2423、T22230、T5009、ISO6353、758標(biāo)準(zhǔn),采用流體靜力學(xué)浮力法,利用流體動(dòng)力學(xué)伯努利原理在線監(jiān)測(cè)蝕刻和洗滌液的比重變化,然后采用拉格朗日插值法,獲取在線監(jiān)測(cè)蝕刻和洗滌液的動(dòng)態(tài)數(shù)據(jù)。可以轉(zhuǎn)換鈾濃度。
緩沖裝置TP-30采用特殊設(shè)計(jì),*符合流體靜力學(xué)原理,測(cè)試數(shù)據(jù)更準(zhǔn)確。
蝕刻洗滌液比重檢測(cè)儀TWD-EW-ONLINE特點(diǎn)
●碳酸鈉水溶液可以去除不受膜表面光線影響的區(qū)域發(fā)展。
●鹽酸和過氧化氫的混合溶液可以去除未覆蓋的銅箔腐蝕。
●氫氧化鈉溶液是一種強(qiáng)電解質(zhì),能去除干膜光刻膠。
●在印刷電路中,腐蝕速率的降低與溶液比重和氯化銨含量有關(guān)。
●在蝕刻液中,如果氯離子濃度過高,會(huì)導(dǎo)致印刷電路中的金屬防腐層腐蝕。
●在蝕刻液中,如果氯離子含量太低,會(huì)導(dǎo)致銅表面發(fā)黑,并固定蝕刻。
蝕刻洗滌液比重檢測(cè)儀TWD-EW-ONLINE功能:
●本體置于操作方便的平臺(tái)上,本體設(shè)有取樣罐。
●試驗(yàn)液進(jìn)出取樣罐的進(jìn)出孔,根據(jù)取樣罐中傳感器球的浮力變化,自動(dòng)顯示液體比重。只需連續(xù)動(dòng)作,即可完成蝕刻清洗液的比重測(cè)量和監(jiān)測(cè),并可轉(zhuǎn)換顯示在線蝕刻清洗液C%的動(dòng)態(tài)數(shù)據(jù)。
蝕刻洗滌液比重檢測(cè)儀TWD-EW-ONLINE規(guī)格參數(shù)
Model | TWD-EW-ONLINE |
S.G range | 0.0001 – 2.0000 (glass weight) |
Testing type | Specific Gravity (S.G), Concentration (C%) |
S.G precision | 0.0001 |
C% range | 0.1%~100.0% |
Standard interface | RS-232 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)