過濾介質(zhì)測試裝置

優(yōu)點

•    從10 nm開始的粒徑測量
•    符合DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標(biāo)準(zhǔn)而且在范圍內(nèi)可比較的測量結(jié)果
•    簡單使用不同的測試氣溶膠，例如NaCl / KCl或DEHS（其他可根據(jù)要求提供）
•    易于移動的稀釋級聯(lián)，系數(shù)分別為10、100、1,000和10,000，用于鹽或DEHS測量
•    方便地測量餾分分離效率并確定MPPS范圍
•    測試方法的高重復(fù)性
•    靈活的過濾器測試軟件FTControl
•    易于操作，即使未經(jīng)培訓(xùn)的人員也可以快速使用設(shè)備
•    客戶可以自主進行清潔
•    設(shè)置時間短，吞吐時間快
•    移動設(shè)置，易于在腳輪上移動
•    在交付前驗收測試期間以及交付時驗證單個組件和整個系統(tǒng)的功能
•    運行可靠
•    低維護
•    設(shè)備將減少您的運營成本

說明

在實際的開發(fā)和質(zhì)量控制應(yīng)用中，Palas®的MFP過濾器測試臺已經(jīng)在世界各地經(jīng)過多次驗證。

MFP Nanoplus專門設(shè)計用于根據(jù)DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標(biāo)準(zhǔn)準(zhǔn)確測定HEPA和ULPA過濾介質(zhì)的分離效率而計。

U-SMPS形式、現(xiàn)代且功能強大的納米顆粒測量設(shè)備可將用于5 nm到1 µm范圍粒度測量和量化分析。

借助通用氣溶膠發(fā)生器UGF 2000，可以用DEHS或鹽（NaCl / KCl）生產(chǎn)與MMPS范圍相匹配的準(zhǔn)確氣溶膠分布。

由于采用可移動稀釋液級聯(lián)，因此可以在非常短的時間內(nèi)將測試設(shè)備從使用鹽霧劑轉(zhuǎn)換為DEHS霧劑，而無需清洗。

測試序列的高度自動化設(shè)置以及清晰定義的單個組件和濾波器測試軟件FTControl的可單獨調(diào)整程序相結(jié)合，共同提供高度可靠的測量結(jié)果。

MFP過濾器測試臺是用于扁平過濾器介質(zhì)和小微型過濾器的模塊化過濾器測試系統(tǒng)?？梢栽诤芏痰臅r間內(nèi)確定壓力損失曲線、餾分分離效率或負(fù)荷，既可靠又具有成本效益。

我們的質(zhì)量細(xì)節(jié)

1.使用UGF 2000產(chǎn)生多種氣溶膠，例如使用KCl/NaCl或DEHS。集成的硅膠干燥長管。通過質(zhì)量流量控制器單獨調(diào)節(jié)產(chǎn)生的氣霧體積流量。

2.氣溶膠中和：Kr 85-370電源或軟X射線充電器XRC 370電暈放電（可選）：可調(diào)節(jié)離子流以適應(yīng)不同質(zhì)量流量?？烧{(diào)混合空氣，流入速度為1.5至40厘米/秒。通過質(zhì)量流量控制器實現(xiàn)監(jiān)視和控制。

3.可移動的氣動過濾器支架，用于快速拆卸和裝載測試裝置。

4.可移動的稀釋液級聯(lián)：稀釋液級聯(lián)可以按規(guī)定的10、100、1,000和10,000因子對所施加的測試氣霧劑進行規(guī)定的稀釋。由于它們是可移動的，因此可以在很短時間內(nèi)將測試設(shè)備從使用鹽霧劑轉(zhuǎn)換為DEHS霧劑。無需長時間或復(fù)雜地清潔系統(tǒng)。

5.用于納米顆粒測量的U-SMPS

Palas®過濾器測試軟件FTControl控制U-SMPS并評估數(shù)據(jù)。

將氣溶膠分布調(diào)整到MPPS范圍

通過適當(dāng)調(diào)整溶液濃度，可以將生成的粒度分布與MFP Nano plus中的相關(guān)MPPS范圍匹配。

圖1：使用DEHS調(diào)整所需MPPS范圍的粒徑

圖2：比較140 nm粒徑MPPS范圍內(nèi)的餾分分離效率

•    清晰展示整個測量范圍內(nèi)過濾介質(zhì)的分離效率
•    準(zhǔn)確測定MPPS范圍
•    較高的測量重現(xiàn)性和可重復(fù)性突出顯示分離效率的微小差異
•    優(yōu)化的應(yīng)用程序?qū)⒚看畏蛛x效率測量的測量時間縮短到6分鐘左右
•    分離效率曲線的簡單比較，也可以計算平均值

自動化：

MFP Nano +集成有質(zhì)量流量控制器，可用于控制體積流量；可以通過FTControl過濾器測試軟件自動監(jiān)視和控制這些流量。在過濾器測試期間，還會自動記錄傳感器數(shù)據(jù)，例如過濾器流量和壓差。在沒有稀釋系數(shù)與分離效率（10、100、1,000或10,000）相匹配的過濾介質(zhì)情況下進行原始?xì)怏w測量。然后，在不稀釋并插入過濾介質(zhì)的情況下進行清潔氣體測量。稀釋系數(shù)的改變是自動執(zhí)行的。

稀釋系數(shù)的驗證：

集成在MFP Nanoplus中的稀釋系統(tǒng)的工作原理與采用噴射原理的成熟的VKL系列相同。 這種稀釋級聯(lián)的優(yōu)點是傳輸過程清晰、污染程度低而且容易清洗。

圖3：將原始?xì)怏w/清潔氣體與10倍NaCl顆粒進行比較來驗證稀釋系統(tǒng)數(shù)

•    使用MFP Nanoplus，可以在MPPS范圍內(nèi)以及整個測量范圍內(nèi)進行餾分分離效率測量。 另外，在相關(guān)的流入速度下，清楚地確定介質(zhì)相關(guān)壓力損失。

應(yīng)用領(lǐng)域

•    用于過濾介質(zhì)和小型過濾器組件
•    產(chǎn)品開發(fā)/生產(chǎn)控制
•    根據(jù)EN 1882-3（HEPA / ULPA）和ISO 29463-3標(biāo)準(zhǔn)進行測試
•    分離效率測量范圍約為 20 nm至1 µm

規(guī)格參數(shù)