![]() |
邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |

聯(lián)系電話
![]() |
邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
聯(lián)系電話
特點:
? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理
? 低于10納米分辨率,產(chǎn)率高達99%
? 一步自動釋放功能,可防止分離過程中模具/基材損壞,使壓印產(chǎn)量大化
? 支持各種類型的硬模和軟模
? 可變模具和基材尺寸,靈活方便
? 可編程PLC,通過自定義參數(shù)進行過程控制,帶觸摸屏用戶界面
? 對準功能選項
? 多種工藝,適用于各種應用光學器件,顯示器,數(shù)據(jù)存儲,生物醫(yī)學器件,半導體IC,化學合成和*材料等
? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制,并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容
PL600
基材尺寸,6“標準(尺寸較小,形狀不規(guī)則)
印記區(qū): 與晶圓尺寸相同。
模板尺寸 6”,4” ,2” and 1”
壓印壓力: 1 psi標準
模具/基材自動釋放: 包括 - 不需要特殊工具
紫外線曝光時間:在95%強度水平下2-3分鐘
對準功能: x,y,z和theta(精度2um)