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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂儀

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

納米壓印光刻機(jī)

快速退火爐

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

探針臺

光學(xué)膜厚儀

原子層沉積系統(tǒng)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

手持式表面分析儀

接觸角測角儀

程序剪切儀

顯微鏡檢測系統(tǒng)

干冰清洗機(jī)

注射泵

環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

韓國波導(dǎo)樹脂

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動涂膜器

    分光光度計

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
    編:
    化:
    www.mycro.net.cn
    網(wǎng)址:
    www.mycro.cn
    鋪:
    http://m.yimoshopping.cn/st119375/
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    [供應(yīng)]RD3、RD6-美國Futurrex顯影液
    RD3、RD6-美國Futurrex顯影液
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時間:
    2024-09-09 10:11:21
    有效期:
    2024年9月9日--2025年3月12日
    已獲點(diǎn)擊:
    127
    【簡單介紹】Futurrex 成立于1985年,是美國光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱,從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有:Ti、半導(dǎo)體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm (高通)等。Futurrex長期與Intel實(shí)驗(yàn)室合作,產(chǎn)品被廣泛收錄進(jìn)美國各大學(xué)半導(dǎo)體教程,是各大研究機(jī)構(gòu)產(chǎn)品。
    【詳細(xì)說明】

    Futurrex產(chǎn)品優(yōu)勢:

    1Futurrex光刻膠黏附性好,無需使用增粘劑(HMDS

    2、負(fù)性光刻膠常溫下可保存3

    3、150度烘烤,縮短了烘烤時間

    4、單次旋涂能夠達(dá)到100um膜厚

    5、顯影速率快,100微米的膜厚,僅需6~8分鐘

    品牌

    產(chǎn)地

    型號

    特性

    應(yīng)用

    對生產(chǎn)力的影響

    Futurrex

    美國

    RD3

    堿性水溶液

    光膠圖案顯影

    Futurrex臨時粘層、
    保護(hù)層和平坦化層的去除

    一種顯影液可同時應(yīng)用于正膠和負(fù)膠在去除PC3系列平坦化層時作為去除劑

    RD6

    Micro Resist

    德國

    ma~D332S

    避免接觸酸和氧化劑

    用于半導(dǎo)體芯片或微納結(jié)構(gòu)制作

    用于光刻膠的顯影

     


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