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邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

納米壓印光刻機(jī)

快速退火爐

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

探針臺(tái)

光學(xué)膜厚儀

原子層沉積系統(tǒng)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

手持式表面分析儀

接觸角測(cè)角儀

程序剪切儀

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

干冰清洗機(jī)

注射泵

環(huán)氧樹(shù)脂

光學(xué)試劑

韓國(guó)波導(dǎo)樹(shù)脂

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽(yáng)光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過(guò)濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測(cè)量單元

    太陽(yáng)能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

    太陽(yáng)模擬器

    LED測(cè)量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
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    [供應(yīng)]SM120-立式反射率測(cè)試儀
    SM120-立式反射率測(cè)試儀
    貨物所在地:
    湖北武漢市
    更新時(shí)間:
    2024-03-22 10:56:44
    有效期:
    2024年3月22日--2025年3月22日
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    【簡(jiǎn)單介紹】全自動(dòng)八度角積分式立式反射率測(cè)試儀SM120,應(yīng)用在電池片制絨工序監(jiān)控環(huán)節(jié),為客戶電池片質(zhì)量品質(zhì)把控,降低損耗提供了有效的檢測(cè)方案。
    【詳細(xì)說(shuō)明】

    SM120 立式反射率測(cè)試儀

    在太陽(yáng)能電池制造領(lǐng)域,獲得太陽(yáng)能硅片的反射率對(duì)生產(chǎn)的控制及研究有著極其重要的意義,但由于絨面的特殊表面,使得測(cè)量其反射率變得十分困難。

    我們根據(jù)ISO7724和DIN5033標(biāo)準(zhǔn)結(jié)合多年光譜儀器研發(fā)經(jīng)驗(yàn)全新推出全自動(dòng)八度角積分式反射儀SM120正是針對(duì)這一問(wèn)題的解決方案,SM120立式反射率測(cè)試儀應(yīng)用在電池片制絨工序監(jiān)控環(huán)節(jié),為客戶電池片質(zhì)量品質(zhì)把控,降低損耗提供了有效的檢測(cè)方案。

    1.產(chǎn)品特點(diǎn)

    ·全自動(dòng)電腦控制,自動(dòng)校準(zhǔn),快速準(zhǔn)確測(cè)量;

    ·支持全自動(dòng)二維掃描(Mapping);

    ·自動(dòng)計(jì)算多點(diǎn)平均反射率;

    ·超長(zhǎng)壽命光源;

    ·結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理,操作簡(jiǎn)單,維護(hù)方便;

    ·保障設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行而無(wú)需經(jīng)常校準(zhǔn)。

    2.應(yīng)用領(lǐng)域

    ·半導(dǎo)體鍍膜    ·光學(xué)鍍膜     ·液晶顯示    

    ·微電子系統(tǒng)    ·生物醫(yī)學(xué)

    3. 選型與規(guī)格參數(shù)

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    光學(xué)膜厚儀通過(guò)測(cè)量薄膜的光學(xué)性質(zhì)來(lái)確定膜的厚度。其原理基于薄膜在不同波長(zhǎng)的光線下會(huì)發(fā)生干涉現(xiàn)象。當(dāng)光線穿過(guò)薄膜時(shí),會(huì)發(fā)生反射和透射,反射和透射的光線會(huì)發(fā)生干涉,形成明暗條紋。通過(guò)測(cè)量這些干涉條紋的特征,可以計(jì)算出薄膜的厚度。

    光學(xué)膜厚儀通常使用白光或單色光源照射在薄膜上,然后測(cè)量反射光的強(qiáng)度或干涉條紋的間距,從而推斷出薄膜的厚度。這種方法適用于各種類型的薄膜,如光學(xué)鍍膜、涂層、光學(xué)薄膜等。通過(guò)光學(xué)膜厚儀可以非常精確地測(cè)量薄膜的厚度,廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、材料等領(lǐng)域。





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