強(qiáng)大的軟件功能：

界面友好，操作簡便，用戶點(diǎn)擊幾下鼠標(biāo)就可以完成測量。便捷快速的保存、讀取測量得到的反射譜數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大，可同時測量多達(dá)四層的薄膜的反射率數(shù)據(jù)。一次測量即可得到四層薄膜分別的厚度和光學(xué)常數(shù)等數(shù)據(jù)。材料庫中包含了大量常規(guī)的材的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)。用戶可以非常方便地自行擴(kuò)充材料數(shù)據(jù)庫。

產(chǎn)品功能適用性：

該儀器適用于多種介質(zhì)，半導(dǎo)體，薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。

典型的薄膜材料為：

SiO2、CaF2、MgF2、光刻膠、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO2、聚酰亞胺、高分子膜。

典型的基底材料為：

SiGe、GaAs、ZnS、ZnSe、鋁丙烯酸、藍(lán)寶石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。

儀器具有開放性設(shè)計，儀器的光纖探頭可很方便地取出，通過儀器附帶的光纖適配器（如圖所示）連接到帶C-mount的顯微鏡（顯微鏡需另配），就可以使本測量儀適用于微區(qū)（>10μm，與顯微鏡放大率有關(guān)）薄膜厚度的測量。

技術(shù)指標(biāo)：