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 | 薄膜制備* |
BlueWave是家著名的美國半導體設備、材料生產(chǎn)商。BlueWave提供多種薄膜制備系統(tǒng)，包括脈沖激光沉積(PLD)、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、反應濺射、熱絲化學氣相沉積(HFCVD)、熱化學氣相沉積系統(tǒng)(TCVD)。這些系統(tǒng)是理想的薄膜與涂層合成設備。可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關(guān)系統(tǒng)配件，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。此外，BlueWave還為您提供標準的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。
1、脈沖激光沉積系統(tǒng)
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產(chǎn)品點：
•電拋光多空不銹鋼超高真空腔體 •可集成熱蒸發(fā)源或濺射源 •可旋轉(zhuǎn)的耐氧化基片加熱臺 | •流量計或針閥準確控制氣體流量 •標準真空計 •干泵與渦輪真空泵 •可選配不銹鋼快速進樣室 | •可選配基片-靶材距離自動控制系統(tǒng) •是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的設備 |
2、物理氣相沉積系統(tǒng)（Physical Vapor Deposition Plus）
產(chǎn)品點 •立襯底加熱，可旋轉(zhuǎn) •多量程氣體流量控制器 •標準氣壓計 | •機械、分子、冷凝真空泵 •襯底和源距離可控 •可用于金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜 |  |
3、熱化學氣相沉積系統(tǒng)（TCVD）
•高溫石英管反應器設計 •溫度范圍：室溫到1100度 •多路氣體準確控制 •標準氣壓計 •易于操作 |
| •可配機械泵實現(xiàn)低壓TCVD •可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜 •液體前驅(qū)體噴頭 •2英寸超大*溫度均勻區(qū) |
4、熱絲化學氣相沉積系統(tǒng)（HFCVD）
產(chǎn)品點： •水冷不銹鋼超高真空腔 •熱絲易安裝、更換 •4個不同量程氣體控制器 •標準氣壓計 •襯底與熱絲距離可調(diào)節(jié) •2英寸襯底加熱、可旋轉(zhuǎn) •*制備金剛石和石墨烯 |  |
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