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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
- 于電鍍槽液中光亮劑和抑制劑的分析；
- 適用于酸銅槽、錫鉛槽、錫槽、堿性鋅槽液的測定
- 電鍍槽中添加劑的有效濃度以每升槽液中添加劑的毫升數(shù)來表示并打印出來。這意味著可以準確的調(diào)節(jié)添加劑濃度。保證了操作的連續(xù)性和無干擾。特別是分析結果的準確性使該方法為電鍍行業(yè)所接受。其他方法，如經(jīng)典的候氏槽（Hull cell）法，僅能提供鍍層質(zhì)量的評估而不能測定添加劑濃度。
- 一機多用，選配MME電極，即成為一臺自動伏安極譜儀，分析多種重金屬離子；
- 使用結構簡單、性價比好的旋轉鉑盤電極。在每次測定前，電極需要進行電化學預處理，這已在方法中設置好、并*自動重復直至測定值穩(wěn)定。
- 采用CVS或CPVS可以準確測定添加劑的含量。
- 內(nèi)置多個大型電鍍液生產(chǎn)廠的分析方法，可直接調(diào)用預置的方法，只需要調(diào)整少量參數(shù)，就可以開始測定。應用報告中配置的方法可用于電鍍業(yè)*列的企業(yè)的鍍液分析?？梢陨暇W(wǎng)下載Metrohm 應用報告（AB）和應用簡報（AN），其中有更深入的應用方法。
主要技術參數(shù)
| zui大輸出電流 | ±8 mA |
| zui大輸出電位 | ±12 V |
| 電位范圍 | ±5 V |
| 電位掃速 | 1mV/S – 3V/S (分辨率1 mV)1mV/S – 35V/S (分辨率10 mV) |
| 電流測量 | 10nA – 10mA 七個范圍 |
| 標準測量模式 | DP，NP，DC，SQW，AC1，AC2，CV，PSA，CCPSA，CVS，CPVS |
| 控制方式 | PC機 |
| 電極 | MME，RDE(Au，Pt，Ultra Trace，Ag，GC) |
| 模擬器 | 儀器硬件自檢 |
| 自動化 | 自動進樣、加標、沖洗等 |
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