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行業(yè)產(chǎn)品

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[供應]NanoCalc-薄膜反射測量系統(tǒng)
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  • NanoCalc-薄膜反射測量系統(tǒng)
貨物所在地：
浙江杭州市
更新時間：
2021-11-27 21:00:07
有效期：
2021年11月27日 -- 2022年5月27日
已獲點擊：
174
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（聯(lián)系我們，請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息，謝謝?。?/p>

產(chǎn)品簡介

薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)可以用來進行10nm~250?m的膜厚分析測量，對單層膜的分辨率為0.1nm。根據(jù)測量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。

詳細介紹

NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)

薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)可以用來進行10nm~250µm的膜厚分析測量，對單層膜的分辨率為0.1nm。根據(jù)測量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。

產(chǎn)品特點

  • 可分析單層或多層薄膜

  • 分辨率達0.1nm

  • 適合于在線監(jiān)測

操作理論

zui常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。

查找n和k值

可以進行多達三層的薄膜測量，薄膜和基體測量可以是金屬、電介質(zhì)、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數(shù)材料的n和k值數(shù)據(jù)庫，用戶也可以自己添加和編輯。

應用

NanoCalc薄膜反射材料系統(tǒng)適合于在線膜厚和去除率測量，包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質(zhì)上的抗反射涂層、抗磨涂層等。

NanoCalc系統(tǒng)

NC-UV-VIS-NIR

重量：

250-1100 nm

厚度：

10 nm-70 m

光源：

氘鹵燈

 

NC-UV-VIS

重量：

250-850 nm

厚度：

10 nm-20 m

光源：

氘鹵燈

 

NC-VIS-NIR

重量：

400-1100 nm

厚度：

20nm-100µm （可選1µm-250µm）

光源：

鹵燈

 

NC-VIS

重量：

400-850 nm

厚度：

50 nm-20μm

光源：

鹵燈

 

NC-NIR

重量：

650-1100 nm

厚度：

70 nm-70μm

光源：

鹵燈

 

NC-NIR-HR

重量：

650-1100nm

厚度：

70 nm-70μm

光源：

鹵燈

 

NC-512-NIR

重量：

900-1700 nm

厚度：

50 nm-200μm

光源：

高亮度鹵燈

 

NanoCalc規(guī)格

入射角：

90°

層數(shù)：

3層以下

需要進行參考值測量：

是

透明材料：

是

傳輸模式：

是

粗糙材料：

是

測量速度：

100ms - 1s

在線監(jiān)測：

可以

公差（高度）：

參考值測量或準直（74-UV）

公差（角度）：

參考值測量

微黑子選項：

配顯微鏡

顯示選項：

配顯微鏡

定位選項：

6"和12" XYZ 定位臺

真空：

可以
NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)

薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)可以用來進行10nm~250µm的膜厚分析測量，對單層膜的分辨率為0.1nm。根據(jù)測量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。

產(chǎn)品特點

  • 可分析單層或多層薄膜

  • 分辨率達0.1nm

  • 適合于在線監(jiān)測

操作理論

zui常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。

查找n和k值

可以進行多達三層的薄膜測量，薄膜和基體測量可以是金屬、電介質(zhì)、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數(shù)材料的n和k值數(shù)據(jù)庫，用戶也可以自己添加和編輯。

應用

NanoCalc薄膜反射材料系統(tǒng)適合于在線膜厚和去除率測量，包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質(zhì)上的抗反射涂層、抗磨涂層等。

NanoCalc系統(tǒng)

NC-UV-VIS-NIR

重量：

250-1100 nm

厚度：

10 nm-70 m

光源：

氘鹵燈

 

NC-UV-VIS

重量：

250-850 nm

厚度：

10 nm-20 m

光源：

氘鹵燈

 

NC-VIS-NIR

重量：

400-1100 nm

厚度：

20nm-100µm （可選1µm-250µm）

光源：

鹵燈

 

NC-VIS

重量：

400-850 nm

厚度：

50 nm-20μm

光源：

鹵燈

 

NC-NIR

重量：

650-1100 nm

厚度：

70 nm-70μm

光源：

鹵燈

 

NC-NIR-HR

重量：

650-1100nm

厚度：

70 nm-70μm

光源：

鹵燈

 

NC-512-NIR

重量：

900-1700 nm

厚度：

50 nm-200μm

光源：

高亮度鹵燈

 

NanoCalc規(guī)格

入射角：

90°

層數(shù)：

3層以下

需要進行參考值測量：

是

透明材料：

是

傳輸模式：

是

粗糙材料：

是

測量速度：

100ms - 1s

在線監(jiān)測：

可以

公差（高度）：

參考值測量或準直（74-UV）

公差（角度）：

參考值測量

微黑子選項：

配顯微鏡

顯示選項：

配顯微鏡

定位選項：

6"和12" XYZ 定位臺

真空：

可以

NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)

薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)可以用來進行10nm~250µm的膜厚分析測量，對單層膜的分辨率為0.1nm。根據(jù)測量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。

產(chǎn)品特點

  • 可分析單層或多層薄膜

  • 分辨率達0.1nm

  • 適合于在線監(jiān)測

操作理論

zui常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。

查找n和k值

可以進行多達三層的薄膜測量，薄膜和基體測量可以是金屬、電介質(zhì)、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數(shù)材料的n和k值數(shù)據(jù)庫，用戶也可以自己添加和編輯。

應用

NanoCalc薄膜反射材料系統(tǒng)適合于在線膜厚和去除率測量，包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質(zhì)上的抗反射涂層、抗磨涂層等。

NanoCalc系統(tǒng)

NC-UV-VIS-NIR

重量：

250-1100 nm

厚度：

10 nm-70 m

光源：

氘鹵燈

 

NC-UV-VIS

重量：

250-850 nm

厚度：

10 nm-20 m

光源：

氘鹵燈

 

NC-VIS-NIR

重量：

400-1100 nm

厚度：

20nm-100µm （可選1µm-250µm）

光源：

鹵燈

 

NC-VIS

重量：

400-850 nm

厚度：

50 nm-20μm

光源：

鹵燈

 

NC-NIR

重量：

650-1100 nm

厚度：

70 nm-70μm

光源：

鹵燈

 

NC-NIR-HR

重量：

650-1100nm

厚度：

70 nm-70μm

光源：

鹵燈

 

NC-512-NIR

重量：

900-1700 nm

厚度：

50 nm-200μm

光源：

高亮度鹵燈

 

NanoCalc規(guī)格

入射角：

90°

層數(shù)：

3層以下

需要進行參考值測量：

是

透明材料：

是

傳輸模式：

是

粗糙材料：

是

測量速度：

100ms - 1s

在線監(jiān)測：

可以

公差（高度）：

參考值測量或準直（74-UV）

公差（角度）：

參考值測量

微黑子選項：

配顯微鏡

顯示選項：

配顯微鏡

定位選項：

6"和12" XYZ 定位臺

真空：

可以

薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)可以用來進行10nm~250µm的膜厚分析測量，對單層膜的分辨率為0.1nm。根據(jù)測量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。

產(chǎn)品特點

  • 可分析單層或多層薄膜

  • 分辨率達0.1nm

  • 適合于在線監(jiān)測

操作理論

zui常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。

查找n和k值

可以進行多達三層的薄膜測量，薄膜和基體測量可以是金屬、電介質(zhì)、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數(shù)材料的n和k值數(shù)據(jù)庫，用戶也可以自己添加和編輯。

應用

NanoCalc薄膜反射材料系統(tǒng)適合于在線膜厚和去除率測量，包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質(zhì)上的抗反射涂層、抗磨涂層等。

NanoCalc系統(tǒng)

NC-UV-VIS-NIR

重量：

250-1100 nm

厚度：

10 nm-70 m

光源：

氘鹵燈

 

NC-UV-VIS

重量：

250-850 nm

厚度：

10 nm-20 m

光源：

氘鹵燈

 

NC-VIS-NIR

重量：

400-1100 nm

厚度：

20nm-100µm （可選1µm-250µm）

光源：

鹵燈

 

NC-VIS

重量：

400-850 nm

厚度：

50 nm-20μm

光源：

鹵燈

 

NC-NIR

重量：

650-1100 nm

厚度：

70 nm-70μm

光源：

鹵燈

 

NC-NIR-HR

重量：

650-1100nm

厚度：

70 nm-70μm

光源：

鹵燈

 

NC-512-NIR

重量：

900-1700 nm

厚度：

50 nm-200μm

光源：

高亮度鹵燈

 

NanoCalc規(guī)格

入射角：

90°

層數(shù)：

3層以下

需要進行參考值測量：

是

透明材料：

是

傳輸模式：

是

粗糙材料：

是

測量速度：

100ms - 1s

在線監(jiān)測：

可以

公差（高度）：

參考值測量或準直（74-UV）

公差（角度）：

參考值測量

微黑子選項：

配顯微鏡

顯示選項：

配顯微鏡

定位選項：

6"和12" XYZ 定位臺

真空：

可以

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