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賽默飛光譜儀的用途以及特點
賽默飛光譜儀是優(yōu)異發(fā)光光譜分析儀器生產技術的結晶。具有超高靈敏度、超高掃描速度、*的光柵和水平狹縫光路設計，適用于高靈敏度的熒光痕量分析，應用于材料、藥學和生命科學等高科技領域和質控、教學等常規(guī)分析領域。
賽默飛光譜儀的主要用途：
賽默飛光譜儀具有重現(xiàn)性好，測量速度快，靈敏度高的特點。能分析F(9)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業(yè)樣品。無標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結果，結果準確度對某些樣品可以接近定量水平，分析時間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析，薄膜分析。測量樣品的大尺寸要求為直徑51mm,高40mm。
賽默飛光譜儀主要特點：
1、特色樣品倉附件：
a、光致發(fā)光量子產率測量附件，用于粉末材料的發(fā)光效率測定，波長范圍240-800nm，用戶科研和工業(yè)控制。
b、細胞內陽離子測定，由于高的掃描速度，我們可以使用輕松使用雙波長測定，專業(yè)軟件控制和數(shù)據(jù)采集，直接給出需要的結果。
c、停流附件可以用于快速反應動力學研究。
2、超高掃描速率和高靈敏度同時具備；快速完成3D光譜數(shù)據(jù)采集，3D時間掃描。
a、3D光譜也被稱為EEM 譜，提供測量范圍中全部光譜信息；用于混合有機化合物的分析；用于復雜化合物的指紋譜圖庫分析比如芳香族化合物、中藥、環(huán)境檢測。
b、快速提供未知樣品的的激發(fā)波長和發(fā)射波長的選取判斷。
c、用于判讀同步掃描的步長差。
d、3D時間掃描，提供隨時間的全譜段的數(shù)據(jù)變化，特別有利于動力學中間產物的監(jiān)控。