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摘要 

XOS 軟件旨在對樣品的基體效應(yīng)做出準(zhǔn)確響應(yīng)。然而，和任何分析技術(shù)一樣，總有一些樣品對 XRF 來說具有特別的挑戰(zhàn)性，一般是由于材料的密度和/或元素的組成。本文件討論了光譜干擾的一般成因，對涉及到檢測和定量測量各種均勻樣品基體中鉛（Pb）含量時(shí)所碰到的常見問題做出了回答 

是什么原因?qū)е裸U的測量濃度偏高和檢測限（LOD）的增加？ 

元素干擾可能會(huì)導(dǎo)致鉛的測量結(jié)果偏高，這是由于激發(fā)能出現(xiàn)了重疊問題。這種重疊有可能由以下三種情況中的一種或多種引起： 

■ 發(fā)射譜線直接重合：例如，砷（As）的 Ka 發(fā)射能為10.54 keV，而 Pb的La 發(fā)射能幾乎一樣，是10.55 keV。任何和 Pb 發(fā)射能接近的元素都有可能造成鉛的測試值偏高。具體請參見第二頁周期表中列出的特征發(fā)射值。 

■ 疊加峰與發(fā)射譜線相重合：當(dāng)檢測器將兩個(gè)或者更多的光子作為一個(gè)光子進(jìn)行計(jì)數(shù)時(shí)，就會(huì)出現(xiàn)疊加峰。疊加峰對基體中具有高強(qiáng)度 X發(fā)射譜線的主要元素的影響特別明顯。疊加峰可能會(huì)和其他元素的發(fā)射譜線重合，比如鐵（Fe）疊加峰的數(shù)值（12.8 keV)）就和鉛的Lß（12.61 keV）發(fā)射譜線出現(xiàn)了重合。 

■ 在特定條件下的發(fā)射譜線干擾：有些發(fā)射譜線的干擾只有在某種元素的濃度特別高時(shí)才會(huì)發(fā)生。主要元素的能量分布值過高，會(huì)小幅提高相鄰元素的檢出限。 

在塑料基底中是否有內(nèi)在的鉛干擾因素？ 

聚合物內(nèi)沒有內(nèi)在的干擾因素，因?yàn)槠浯蟛糠值慕M成成分是有機(jī)的，而 XRF 檢測對有機(jī)部分沒有響應(yīng)。聚合物的基底干擾可能來自于基底中的其他元素，這些元素的特性已經(jīng)在上一節(jié)中做了說明。通常，聚合物基底中 Pb 的主要干擾因素是高濃度的溴（Br）或鉍（Bi），如圖1 所示。 

在金屬基底中是否有內(nèi)在的鉛干擾因素？ 

含有 As的 Fe 樣品會(huì)增加Pb 的LOD，并可能導(dǎo)致測量結(jié)果出現(xiàn)錯(cuò)誤，因?yàn)镕e的疊加峰的存在，還有 As的發(fā)射譜線出現(xiàn)了直接重合，如圖2 所示。如果 Fe基底選用的是含有大量鉻（Cr）的不銹鋼，那么會(huì)進(jìn)一步提高鉛的 LOD，這是因?yàn)橛捎?Cr也有疊加峰，還有As的Kß 發(fā)射譜線和Fe 的重合了。 

XOS檢測儀，產(chǎn)品主要用于石油、工業(yè)和市政廢水以及土壤中的重金屬檢測，包括硫，鉛，砷，鎘，鋅等多達(dá)幾十種元素，無論是單一元素還是多元素檢測，客戶只需一鍵操作就能獲得的測量結(jié)果，分析快速。分析儀無需試劑和化學(xué)消耗品以及樣品預(yù)處理，方便快捷。