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HI84100采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例，當(dāng)有氧存在時(shí)將Z先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。
詳細(xì)介紹
HI84100食品行業(yè)二氧化硫滴定分析儀
HI84100采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例，當(dāng)有氧存在時(shí)將zui先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。
* 基于微電腦控制技術(shù)，集滴定分析，磁力攪拌和電極測(cè)量于一體。
* 性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單，可直接顯示測(cè)量結(jié)果。
* 人性化設(shè)計(jì)，具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能。
* 殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。
* 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
* 當(dāng)殘留濃度超過(guò)2.0ppm時(shí)，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
| 測(cè)量項(xiàng)目 | | 二氧化硫 |
| 量程 | | 0 to 400 ppm of SO2 |
| 解析度 | | 1 ppm |
| 精度 | | 讀數(shù)的5% |
| 測(cè)量方法 | | 滴定法 |
| 測(cè)量原理 | | 等電位氧化還原滴定法 |
| 取樣量 | | 50 mL |
| ORP 電極 | | HI 3148B |
| 泵流量 | | 0.5 mL/min |
| 攪拌速率 | | 1500 rpm |
| 適用環(huán)境 | | 0 to |
| 供電方式 | | 220V/60 Hz; 10VA |
| 尺寸重量 | | 208 x 214 x |