ITO襯底上制備了ZnO納米棒陣列(國(guó)內(nèi)廠家)
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ITO襯底上制備了ZnO納米棒陣列(國(guó)內(nèi)廠家)
結(jié)合電子束曝光(EBL)和水熱生長(zhǎng)方法制備了周期性單根ZnO納米棒陣列。在預(yù)制有ZnO種子層的ITO基底上,旋涂制備聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)層,通過(guò)電子束曝光過(guò)程構(gòu)筑周期性多孔PMMA模板,然后在模板的輔助下,水熱生長(zhǎng)周期性ZnO納米棒陣列。由于模板的作用,ZnO納米棒嚴(yán)格垂直基底。低溫(90°C)生長(zhǎng)條件提供了的基底兼容性1。另外,前驅(qū)體濃度對(duì)ZnO形貌有很大調(diào)控作用,利用高濃度(0.15 M)的前驅(qū)體溶液可以納米棒形成簇狀陣列2,進(jìn)而形成周期性單根納米棒陣列。
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