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TEM氣體加熱樣品臺(tái)
  • TEM氣體加熱樣品臺(tái)

貨物所在地:福建廈門市

更新時(shí)間:2024-12-03 21:00:07

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TEM氣體加熱樣品臺(tái)是在原位樣品臺(tái)內(nèi)部構(gòu)建小型的氣氛納米實(shí)驗(yàn)室,在氣體環(huán)境內(nèi)對(duì)材料進(jìn)行原子分辨高時(shí)空精度分析。可以根據(jù)客戶需求結(jié)合MEMS微加工工藝內(nèi)置加熱模塊、光學(xué)模塊和偏壓模塊,通過(guò)微納芯片對(duì)單個(gè)納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行外場(chǎng)控制進(jìn)行熱學(xué)、光學(xué)及電學(xué)性質(zhì)的測(cè)量,并可在物性測(cè)量的同時(shí),動(dòng)態(tài)、高分辨地對(duì)樣品的晶體結(jié)構(gòu)、化學(xué)組分、元素價(jià)態(tài)進(jìn)行綜合表征。


TEM氣體加熱樣品臺(tái)

●與主流TEM兼容,兼容STEM, SAED, EELS, EDS等功能;
●超薄氮化硅膜視窗(可達(dá)10 nm),薄(100-200 nm),可達(dá)到電鏡自身分辨率;
●圖像自動(dòng)校正系統(tǒng)避免復(fù)雜的動(dòng),便于捕獲樣品在反應(yīng)過(guò)程中的關(guān)鍵信息; ●適用于多種氣體,Ar、N 、CO、O 、H 、CH 、CO 、He、空氣等;
●氣體流速可控,0~50 μL/s,流速低至5 nL/s;
●高精度、高頻控溫模式,具有實(shí)時(shí)溫度控制及測(cè)量功能;
●溫度范圍RT~1300 ℃,溫度穩(wěn)定性<±0.01 ℃,溫度均勻性>99.5%;
●升溫快、溫度場(chǎng)穩(wěn)定且均勻,升溫過(guò)程樣品幾乎無(wú)漂移。

TEM氣體加熱樣品臺(tái)上的MEMS加熱芯片外接皮安級(jí)高精度溫度高頻控制器,精確控制 加熱區(qū)域的溫度及其穩(wěn)定性,實(shí)現(xiàn)超高速升降溫,0.01 ℃高精度溫度控制及測(cè)量,同時(shí)可在加熱環(huán)境中樣品幾乎不漂移,可實(shí)現(xiàn)樣品的皮米級(jí)高分辨成像。

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