VUV低壓紫外汞燈能同時(shí)發(fā)射波長(zhǎng)254nm和185nm的紫外光，這兩種波長(zhǎng)的光子能量可以直接打開(kāi)和切斷有機(jī)物分子中的共價(jià)鍵，使有機(jī)物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。與此同時(shí)，185nm波長(zhǎng)紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長(zhǎng)的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個(gè)光敏氧化反應(yīng)過(guò)程是連續(xù)行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會(huì)不斷的生成和分解，活性氧原子就會(huì)不斷的生成，而且越來(lái)越多，由于活性氧原子（O）有強(qiáng)烈的氧化作用，與活化了的有機(jī)物（即碳?xì)浠衔铮┓肿影l(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而*清除了粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。

應(yīng)用

光清洗術(shù)的應(yīng)用范圍十分廣泛，在現(xiàn)代信息術(shù)行業(yè)中使用光清洗術(shù)普遍，隨著我業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等業(yè)生產(chǎn)域。

1、在LCD、OLED生產(chǎn)中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過(guò)光清洗，可以顯著提基體表面潤(rùn)濕性，增強(qiáng)基體表面的粘合力；

2、印制電路板生產(chǎn)中，對(duì)銅底板，印刷底板行光清洗和改質(zhì)，在導(dǎo)線焊接前行光清洗，可以提熔焊的接觸面積，大大增加連接強(qiáng)度。特別是度印制電路板，當(dāng)線距達(dá)到亞微米級(jí)時(shí)，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提印制電路板的質(zhì)量。

3、大規(guī)模集成電路的密度越來(lái)越，晶格的微細(xì)化越來(lái)越密，要求表面的潔凈度越來(lái)越，光清洗可以有效地實(shí)現(xiàn)表面的原子清潔度，而且對(duì)芯片表面不會(huì)成損傷。

4、在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前行光清洗，可以提粘合力，防止針孔、裂縫的發(fā)生。

5、在光盤(pán)的生產(chǎn)中，沉積各種膜前作光清洗準(zhǔn)備，可以提光盤(pán)的質(zhì)量。

6、磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提金屬絲的連接強(qiáng)度，光清洗后效果更好。

7、石英晶體振蕩器生產(chǎn)中，除去晶體檢測(cè)后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發(fā)沉積前，行光清洗可以提鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能。

8、在IC卡表面插裝ROM前，經(jīng)過(guò)光清洗可提產(chǎn)量。

9、彩色濾光片生產(chǎn)中，光清洗后能*洗凈表面的有機(jī)污染物。

10、敷銅箔層壓板生產(chǎn)中，經(jīng)過(guò)光照改質(zhì)，不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護(hù)氧化層，產(chǎn)量顯著提。

11、光學(xué)玻璃經(jīng)過(guò)紫外光清洗后，鍍膜質(zhì)量更好。

12、樹(shù)脂透鏡光照后，能加強(qiáng)與防反射板的粘貼性。

13、對(duì)清除石蠟、松香、油脂、人體體油、殘余的光刻膠、環(huán)氧樹(shù)脂、焊劑，以及帶有氧化膜的金屬表面處理，去除導(dǎo)電聚酰亞胺粘合劑上的有機(jī)污染物，光清洗是十分有效的方法。

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解析紫外臭氧清洗機(jī)作原理

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