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雙光子灰度光刻技術(shù)革新航天器推進器制造

閱讀:253        發(fā)布時間:2024/6/11
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近期德國Justus Liebig University的Fynn L. Kunze課題組在Journal of Electric Propulsion上發(fā)表了關(guān)于一種利用Nanoscribe3D微納加工技術(shù)制造微型毛細管式電噴霧推進器的方法。


電噴霧推進器(Electrospray thrusters)是一種靜電推進器,通過使用靜電場從液體推進劑中提取離子或液滴來工作。由于具有可擴展性、精確的推力和脈沖比特以及使用液體或半固體推進劑等優(yōu)點,它們成為微型和納米衛(wèi)星以及商業(yè)應(yīng)用的理想選擇。




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然而,電噴霧推進器的研究也面臨著許多難點和痛點。


制造工藝的挑戰(zhàn):微型電噴霧推進器的制造需要高精度和高分辨率的制造工藝,這對于傳統(tǒng)的制造方法來說是一個挑戰(zhàn)。

材料選擇:推進器的材料需要在太空的惡劣環(huán)境下保持穩(wěn)定,同時具有良好的導(dǎo)電性和耐腐蝕性。

推進劑管理:推進劑的供應(yīng)和管理是電噴霧推進器的一個關(guān)鍵問題。推進劑需要在真空環(huán)境下穩(wěn)定地供應(yīng)到發(fā)射器,同時避免泄漏和污染。

性能優(yōu)化:電噴霧推進器的性能受到多種因素的影響,包括發(fā)射器的幾何形狀、電極的設(shè)計、推進劑的性質(zhì)以及工作電壓等。優(yōu)化這些參數(shù)以獲得最佳性能是一個復(fù)雜的問題。


為了解決這些問題,本文提出了一種創(chuàng)新的方法,利用Nanoscribe雙光子光刻技術(shù)進行微型毛細管式電噴霧推進器的增材制造。雙光子光刻(Two-photon lithography)是一種增材制造工藝,利用雙光子相互作用引發(fā)光敏樹脂中的化學(xué)反應(yīng)。與傳統(tǒng)的微機械制造技術(shù)(如微加工或蝕刻)相比,雙光子光刻在形狀和結(jié)構(gòu)的可能性方面受到的限制明顯更少,可以制造出具有高縱橫比(寬度與高度比)的結(jié)構(gòu),這對毛細管式發(fā)射器的設(shè)計非常重要。


在毛細管式發(fā)射器的設(shè)計中,一個主要的挑戰(zhàn)是毛細管的流體阻力。如果發(fā)射器的阻力不足,它們很容易溢出或產(chǎn)生大液滴而不是精細的離子噴霧。為了增加流體阻力,本文提出了一種增加毛細管縱橫比的解決方案。作者還介紹了毛細管式發(fā)射器的設(shè)計,并討論了影響流體阻力的因素,如毛細管的半徑和長度。


在文獻中,作者使用了IP-Q光刻膠作為發(fā)射器結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)材料。IP-Q光刻膠具有與SU-8相當(dāng)?shù)臋C械和化學(xué)性能,并且在微流體應(yīng)用中表現(xiàn)相似。與SU-8相比,使用IP-Q的一個優(yōu)點是工藝時間顯著縮短,這是由于使用了10倍物鏡而不是之前使用的20倍物鏡。然而,更高的打印速度是以增加體素尺寸為代價的。




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本文還提出了一種用于發(fā)射器陣列的集成提取電極的全新模塊化設(shè)計。將電極集成到發(fā)射器設(shè)計中具有許多優(yōu)點,例如提高發(fā)射器孔與電極之間的對準(zhǔn)精度,從而減少截獲的離子電流。3D打印電極進一步減少了制造誤差。這些誤差可能導(dǎo)致發(fā)射器提取行為的差異,因為發(fā)射器與電極相互作用。緊湊的設(shè)計本身是另一個優(yōu)點,因為集成的電極需要更少的支撐材料。3D光刻方法確保了多個提取電極在尺寸和形狀上幾乎相同,并提供了高度的靈活性,可以以任何期望的方式調(diào)整電極的設(shè)計。




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最后,作者展示了發(fā)射器操作和原位觀察的光學(xué)圖像和視頻以及發(fā)射數(shù)據(jù)。在所有實驗中,電極接地,然后向離子液體1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸鹽(EMIM-BF4)施加正或負高壓。


本文的工作通過Nanoscribe雙光子聚合原理微納3D打印完成,全新雙光子灰度光刻技術(shù)將微納增材制造和超高速體素大小調(diào)節(jié)結(jié)合在一起:雙光子灰度光刻(2GL)是一種全新的具有超高速、超精確的可以滿足自由形態(tài)的微加工技術(shù),同時又不影響速度和精度。

Nanoscribe 3D微納加工系統(tǒng)海具備A2PL®對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù),可實現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準(zhǔn)。3D printing by 2GL®在實現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時兼顧打印速度,適用于微光學(xué)制造和光子封裝領(lǐng)域。


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