產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
世偉洛克ALD原子沉積隔膜閥
世偉洛克是半導(dǎo)體芯片制造應(yīng)用的行業(yè)技術(shù)壁壘和解決方案提供商,同時也是 ALD 閥門技術(shù)的*。我們的 ALD 超高純 (UHP) 閥具有以下特點:
高速啟動下的超高循環(huán)壽命
Cv 范圍從 0.27 1.7
使用熱動元件時,全浸沒溫度高達(dá) 392°F (200°C)
適合于采用標(biāo)準(zhǔn) 316L VIM-VAR 不銹鋼閥體的 UHP 應(yīng)用
模塊化表面安裝、卡套管對焊和 VCR 端接
電子或光學(xué)執(zhí)行機(jī)構(gòu)位置傳感選購件
世偉洛克ALD原子沉積隔膜閥
ALD 隔膜閥具有超長的使用壽命、高速的啟動和高達(dá) 0.62 的流量系數(shù),與熱執(zhí)行機(jī)構(gòu)、位置傳感器和電磁閥配合使用,可在原子層沉積應(yīng)用場合實現(xiàn)佳性能。
規(guī)格
工作壓力 真空 145 psig (10.0 bar)
爆裂壓力 3200 psig (220 bar)
執(zhí)行壓力 50 90 psig(3.5 6.2 bar)
溫度 32° 392°F(0° 200°C)
流量系數(shù)(Cv) 0.27 或 0.62
閥體材料 316L VIM-VAR 不銹鋼
隔膜材料 鈷基高溫合金
端接
類型(尺寸) 內(nèi)螺紋 VCR 面密封接頭(1/4 in. 1/2 in.)
外螺紋 VCR 面密封接頭(1/4 in. 1/2 in.)
模塊化表面安裝高流量 C 型密封(1.125 in. 1.5 in.