用于半導(dǎo)體制造工藝的單組分密度計(jì)介紹
產(chǎn)品概覽
該型號(hào)在保留 FUD-1 Model-13 的可維護(hù)性和高精度在線測(cè)量等優(yōu)點(diǎn)的同時(shí)，配備了用于半導(dǎo)體制造工藝的小型單元發(fā)射器。
單組分密度計(jì)的特點(diǎn)實(shí)時(shí)濃度測(cè)量成為可能，并且易于構(gòu)建濃度控制系統(tǒng)。 標(biāo)配模擬DC4-20mA和數(shù)字RS232C 標(biāo)配測(cè)量誤差輸出和報(bào)警輸出 標(biāo)配自診斷功能和錯(cuò)誤信息顯示 緊湊輕便的單元式變送器可直接安裝在線路上 由于使用 PFA 的接液部件的質(zhì)量和小輸出設(shè)計(jì)，對(duì)化學(xué)溶液沒(méi)有影響。
|
| 優(yōu)點(diǎn)可進(jìn)行高精度連續(xù)測(cè)量 免維護(hù)，無(wú)需定期調(diào)整和校準(zhǔn) 安裝方便，安裝過(guò)程中無(wú)需進(jìn)行各種調(diào)整 通過(guò)實(shí)時(shí)輸出輕松反饋過(guò)程
|
用途CMP工藝中的CMP漿料或氧化劑濃度控制等。 稀釋過(guò)程中各種化學(xué)品的濃度控制（H2O2、TMAH、HNO3、H2SO4、HCl等） 清洗過(guò)程中清洗液濃度控制（HF、NH4OH、KOH、IPA等） 蝕刻過(guò)程中蝕刻液濃度控制（HF、H2SO4等）
|
化工儀器網(wǎng)