等離子體原子層沉積是一種氣相沉積技術(shù)，利用了等離子體的化學(xué)反應(yīng)和表面反應(yīng)來(lái)沉積薄膜。它通常由兩個(gè)步驟組成：前驅(qū)體吸附和后處理。
前驅(qū)體分子被引入反應(yīng)室，并通過(guò)化學(xué)吸附與襯底表面發(fā)生反應(yīng)，形成一個(gè)單層分子。
一個(gè)等離子體源引入反應(yīng)室，產(chǎn)生高能粒子，與已吸附的前驅(qū)體發(fā)生反應(yīng)，釋放出非揮發(fā)性產(chǎn)物并修飾表面。重復(fù)這兩個(gè)步驟多次，可以逐漸增加薄膜的厚度和質(zhì)量。
等離子體原子層沉積具有許多優(yōu)勢(shì)。
可以在低溫下進(jìn)行，適用于對(duì)溫度敏感的襯底和器件。
提供了較高的控制能力。由于每個(gè)沉積周期中只有單層分子被添加，可以實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的薄膜厚度和組成控制，從而獲得優(yōu)異的均勻性和界面質(zhì)量。
還具有較高的反應(yīng)速率和良好的可擴(kuò)展性，使其成為大規(guī)模生產(chǎn)中的理想選擇。
在微電子領(lǐng)域，廣泛應(yīng)用于金屬、氧化物和氮化物薄膜的制備。這些薄膜在晶體管、存儲(chǔ)器和傳感器等器件中發(fā)揮關(guān)鍵作用。通過(guò)精確控制沉積參數(shù)，可以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的界面、低損耗和低漏電流，提高器件性能和穩(wěn)定性。
在光學(xué)領(lǐng)域，用于制備光學(xué)涂層、反射鏡和濾波器等。利用其高控制能力和優(yōu)異的均勻性，可以實(shí)現(xiàn)高透過(guò)率、低反射率和精確的光學(xué)特性，滿足不同光學(xué)器件的需求。
等離子體原子層沉積還在納米器件和能源領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大潛力。在納米電子學(xué)中，可以利用其高分辨率和界面控制能力來(lái)制備納米線、納米點(diǎn)陣列和量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)。在能源存儲(chǔ)和轉(zhuǎn)換中，可以利用其優(yōu)異的薄膜質(zhì)量和界面特性來(lái)改善電池、太陽(yáng)能電池和燃料電池等器件的性能。
會(huì)員.png)
3
立即詢價(jià)
您提交后，專屬客服將第一時(shí)間為您服務(wù)