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磁控低溫離子濺射儀
  • 磁控低溫離子濺射儀

更新時間:2024-11-19 11:07:03

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適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜(金膜、鉑金、銀、鎳、銅等),儀器操作簡單方便,是配合各類型掃描電子顯微鏡制樣的儀器。是制備低維度,小尺寸納米材料器件的實驗手段,廣泛應用于集成電路,光子晶體,低維半導體、微生物、超微膜材料等領域。
主要技術參數(shù):

低溫磁控型

1.顯示操作面為30°斜面,充分考慮操作的便捷和視覺體驗,方便觀察操作;

2.真空泵連接管路為金屬波紋管,美觀耐用;

3.微調(diào)閥調(diào)節(jié)靈敏準確,帶有刻度標識;

4.真空泵抽速快,噪音低,適合實驗室使用;

5.控制電路為控制板,工作穩(wěn)定可靠;

6.顯示控制操作部分布局合理,使用方便;

7.結構簡單可靠,布局合理,維修操作空間大;

8.自動真空的進排氣,關機自動放棄(標準版手動放氣)

9.優(yōu)化機型外觀,整潔大方,體積靈巧;

10.數(shù)字方式定時,0-9999秒?yún)^(qū)間自主調(diào)節(jié);

11.采用冷陰極磁控濺射靶頭;

12.升降式上翻蓋結構,更換樣品方便快捷;

13.采用定制“凹"密封,更加方便操作;

14.增大樣品處理室空間,φ150X110高硬度耐高溫石英晶體;

15.定制型真空泵排氣過濾器;

16.獨立式升降樣品臺組件(標準為2支柱緊固型);

17.石英處理室:Φ150mm,高度110mm;

18. 濺射類型: 冷陰極磁控型二級濺射;

19.樣臺尺寸:150mm,樣品臺插孔61個可選;可升降和手動旋轉(zhuǎn)

20.樣品更換:升降式上翻蓋結構,上蓋打開可獨立支撐

21.靶材尺寸:Φ50(可選配定制高效率靶材);

22.真空系統(tǒng):型渦旋真空泵2L/S;

23.真空檢測:定制皮氏計,配合真空指針表,靈敏可靠;

24. 真空保護:20Pa配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空;

25.真空泄壓:自動進排氣(無需手動放氣閥);

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