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濺射靶材
  • 濺射靶材

更新時(shí)間:2024-11-19 12:30:54

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真空濺射是制備薄膜樣品盒電子顯微鏡樣品表面處理的常規(guī)手段。高質(zhì)量、高純度的靶材是蒸鍍成功的先決條件。常用靶材有碳材料(碳棒、碳繩)和金屬材料(金、鉑、銀、銅、鈦、鋁)等。實(shí)時(shí)報(bào)價(jià),歡迎咨詢!

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