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NAP系列是卓立漢光采用三線擺技術(shù)、層流阻尼技術(shù)所設計的高性能氣浮隔振平臺，豎直方向和水平方向隔振性能好、振動恢復時間短。

臺面整體為三層夾心式蜂窩結(jié)構(gòu)，臺面厚度為100mm，可選擇焊接式臺面或粘接式帶隔離杯臺面。其中焊接式臺面的平面度為0.02~0.05mm/600mm×600mm，粘接式臺面平面度為0.1mm/600mm×600mm。臺面上按照25mm×25mm孔距均布M6 螺紋孔，方便安裝各類滑臺和調(diào)整架。

氣浮支架采用三線擺技術(shù)與層流阻尼技術(shù)，氣室為二層結(jié)構(gòu)，采用整體焊接四支撐結(jié)構(gòu)。固有頻率：垂直方向＜1.5~2.5Hz；水平方向＜1~1.5Hz。隔振效率：垂直方向：5Hz時：75~92%，10Hz時：90%~95%；水平方向：5Hz時：88~94%，10Hz時：92%~98%。3個水平調(diào)節(jié)閥反應靈敏，響應時間短，水平重復精度：±0.5mm。調(diào)整高度機構(gòu)分為兩部分：支架下方（每個支撐腿下方）具有高度調(diào)整機構(gòu)，可解決地面不平引起的支架扭曲、變形等現(xiàn)象。支架上方采用三個*的高度調(diào)整機構(gòu)，可以調(diào)整高度和臺面水平，平臺自帶四角防護板，具有臺面氣浮高度指示功能，調(diào)節(jié)更便捷。支架自帶腳輪，方便移動和調(diào)整。

NAP系列氣浮隔振平臺豎直和水平方向隔振效果優(yōu)異，適用于對隔振要求很高的光學實驗，或放置精密儀器。

氣浮隔振光學平臺NAP系列命名規(guī)則：

特點：

• 引入對隔振有較好效果的三線擺系統(tǒng)。

• 采用層流阻尼元件，系統(tǒng)反應更靈敏。

• 自帶四角防護板，具有臺面氣浮高度指示功能，調(diào)節(jié)更便捷。

 

氣浮隔振光學平臺NAP系列技術(shù)指標：

• 固有頻率：垂直方向＜1.5~2.5Hz；水平方向＜1~1.5Hz

• 隔振效率：垂直方向：5Hz時：75~92%；10Hz時：90%~95%

水平方向：5Hz時：88~94%；10Hz時：92%~98%

• 隔振方式：三線擺隔振系統(tǒng)

• 阻尼方式：層流阻尼

• 工作臺面：三層夾心式蜂窩結(jié)構(gòu)（可選配蜂窩粘接式帶隔離杯臺面）

• 表面平面度：焊接式臺面：0.02~0.05mm/600mm×600mm

粘接式臺面：±0.1mm/600mm×600mm

• 臺面厚度：100mm

• 上臺板：4~6mm厚 SUS430(1Cr17) 高導磁不銹鋼

• 下底板：4~6mm厚碳鋼，表面噴黑塑處理

• 安裝孔：M6

• 孔距：25mm×25mm

• 安裝孔距邊：37.5mm

• 臺面加支架總高度：800mm

• 總高度可調(diào)范圍：-10~+15mm

• 支架負載：500kg

• 單個隔振腿負載：125kg

• 最大空氣壓力：0.6MPa

• 建議工作空氣壓力：0.3~0.4MPa

• 水平重復精度：±0.5mm

細節(jié)說明：

其它配件：

選型表：（本系列-K型號為設計規(guī)格，技術(shù)指標以最終發(fā)布內(nèi)容為準）

尺寸圖：