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引言：鉬具有耐高溫，低膨脹系數(shù)，在合金中添加鉬能起到耐 熱和耐腐蝕作用，并提高合金的強(qiáng)度，用于制造航空和 航天的各種高溫部件。尤其對(duì)于含高鉬的鎳基合金，除 了主合金成份外，對(duì)于一些雜質(zhì)元素的控制將嚴(yán)重影響 合金的性能。氧化鉬和鉬酸鹽是化學(xué)和石油工業(yè)中的優(yōu) 良催化劑，為保證催化劑的性能也需要對(duì)重金屬加以嚴(yán) 格的控制。由于鎘的所有同位素都會(huì)受到氧化鉬的一價(jià) 多原子離子干擾，本方法通過(guò) CCT 氧氣反應(yīng)將氧化鉬轉(zhuǎn) 化為多氧化鉬從而消除了對(duì)鎘的干擾。

方法提要：本實(shí)驗(yàn)將高純氧化鉬溶解于稀氨水中，采用 iCAP Qc ICPMS，分別采用高流量 He 氣碰撞和 CCT 氧氣反應(yīng)模式 測(cè)定，通過(guò) Qtegra 自動(dòng)調(diào)諧，并優(yōu)化碰撞反應(yīng)氣體流量 消除 Mo 基體對(duì)鎘測(cè)定的干擾。

儀器 iCAP Qc ICPMS （Thermo Scientific） 試劑及標(biāo)準(zhǔn)品 氨水（Trace Metal Grade, Fisher Scientific） 硝酸（Trace Metal Grade, Fisher Scientific） 多元素混合標(biāo)準(zhǔn)溶液 （71A, Inorganic Venture） 多元素混合標(biāo)準(zhǔn)溶液 （155B, Inorganic Venture） 

樣品前處理方法 稱取 0.25 g 樣品于聚四氟乙烯坩堝中，加入 5 ml 氨水 (1+1) 低溫溶解，冷卻后，用 0.5% 硝酸稀釋至 50 ml。取消解液 1 g 5 份，加入鎘標(biāo)準(zhǔn)溶液并用稀硝酸稀釋至 50 g，配 置成 0，0.5，1，5 和 10 ng/ml 標(biāo)準(zhǔn)加入工作曲線。用稀 硝酸稀釋至 10 倍用于測(cè)定 W，Re，As，Pb 等其他元素， 10 ng/ml Rh 和 Ir 作為內(nèi)標(biāo)

儀器參數(shù) iCAP Q ICPMS 具備一鍵式儀器設(shè)置功能，設(shè)置后可自動(dòng) 運(yùn)行個(gè)性化 TUNE 程序，并完成 Performance Report。一 鍵儀器設(shè)置和直觀分析工作流程，為操作人員簡(jiǎn)化了實(shí) 驗(yàn)步驟并避免出錯(cuò)，同時(shí)自動(dòng)和記錄監(jiān)控儀器狀態(tài)，確 保了操作的一致性和結(jié)果的重現(xiàn)性。

實(shí)驗(yàn)部分 Cd的同位素110，111，112，113和114都受到MoO+的干擾， 見(jiàn)下表：

iCAP Qc QCell 碰撞反應(yīng)池具有純氦氣碰撞，和加氧氣反應(yīng) 技術(shù)以消除多原子離子的干擾。采用氦氣碰撞，多原子離 子被碰撞后其動(dòng)能下降，通過(guò)動(dòng)能歧視效應(yīng) KED 而被過(guò) 濾。而在 Qcell 中加入氧氣，MoO+ 與 O2 反應(yīng)成為 MoO2 + 、 MoO3 + 、MoO4 + ，使得干擾物形成多氧化物而質(zhì)量數(shù)遷移， Cd 通常不參與氧化反應(yīng)從而消除干擾。下面分別采用氦 氣碰撞 KED 和氧氣反應(yīng) CCT 模式測(cè)定進(jìn)行比較

1）在 KED 測(cè)定模式下，自動(dòng)調(diào)諧后，優(yōu)化動(dòng)能歧視電 壓為 3v。吸噴 100 ug/ml 的純鉬和加標(biāo) 1 ng/ml Cd 的溶液， 通過(guò)增大碰撞 He 流量，比較待測(cè)同位素的基體和加標(biāo)強(qiáng)度，以信背比確定的 He 流量為 6.0 ml/min，見(jiàn)下表

從標(biāo)準(zhǔn)加入工作曲線圖中得到，100 mg/ml Mo 基體中 Cd 的 BEC 空白等效濃度為 110Cd 1.812 ng/ml、111Cd 1.810 ng/ml； 檢出限 IDL 為 110Cd 0.118 ng/ml、111Cd 0.034 ng/ml。

從表中得到 CCT O2 反應(yīng)模式，100 ug/ml Mo 基體中 Cd 各 同位素的背景強(qiáng)度都低于了 200 cps，其信背比與 H-KED He 碰撞模式有很大的提高。高流量 O2 反應(yīng)使得 MoO 趨 向于氧化物方向進(jìn)行，從掃描圖中可以得到，在 Qcell 中加入 100%O2 將 MoO 遷移到 MoOO、MoOOO…， 而 Cd 可仍然使用原質(zhì)量數(shù)上測(cè)定，見(jiàn)下圖。

從標(biāo)準(zhǔn)加入工作曲線圖中得到，100 mg/ml Mo 基體中 Cd 的 BEC 空白等效濃度為 112Cd 0.007 ng/ml、114Cd 0.0005 ng/ml； 檢出限 IDL 為 112Cd 0.0004ng/ml、111Cd 0.005ng/ml 

結(jié)論：高靈敏度 iCAP Qc ICP-MS 測(cè)定高純氧化鉬中 Cd 等痕量元 素，通過(guò) Qtegra 自動(dòng)調(diào)諧功能，在 Qcell 加入高流量的 氧氣反應(yīng)，將 MoO 轉(zhuǎn)化為多氧化鉬，將干擾質(zhì)量數(shù)進(jìn) 行遷移，與 Cd 測(cè)定同位素分開，從而消除干擾，以滿 足高純氧化鉬中鎘的測(cè)定。