SEMICON CHINA
SEMICON CHINA 2021將于3月17日-19日在上海新guo際博覽中心如期舉行。作為中國(guó)的半導(dǎo)體行業(yè)盛事，囊括當(dāng)今世界上半導(dǎo)體制造領(lǐng)域主要的設(shè)備及材料廠商，該展會(huì)將為業(yè)內(nèi)人士提供高效交流、洞悉行業(yè)動(dòng)態(tài)的有效平臺(tái)。
在此，賽默飛世爾科技誠(chéng)邀您蒞臨我們的展位（展位號(hào)：N5135），觀摩我們的指尖實(shí)驗(yàn)室，與我們的技術(shù)專(zhuān)家共同探討失效分析解決方案。我們將展示針對(duì)半導(dǎo)體制造商和電子行業(yè)的先分析流程，助您加快產(chǎn)品缺陷識(shí)別和研發(fā)進(jìn)程，實(shí)現(xiàn)過(guò)程監(jiān)控、良率提升，及時(shí)搶占市場(chǎng)！
賽默飛半導(dǎo)體雜質(zhì)檢測(cè)
quan方位解決方案
Dionex ICS-6000 HPIC高壓離子色譜系統(tǒng)
廣泛應(yīng)用于離線和在線監(jiān)控fab AMC，超純水中陰、陽(yáng)離子的監(jiān)控以及高純?cè)噭ㄋ?、堿和有機(jī)溶劑）中陰、陽(yáng)離子分析。通過(guò)zhuan利的在線電解淋洗液發(fā)生器實(shí)現(xiàn)無(wú)需手動(dòng)配置淋洗液，實(shí)現(xiàn)操作更簡(jiǎn)單，測(cè)試結(jié)果更穩(wěn)定。
iCAP™ TQ ICP-MS
廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)金屬離子痕量分析檢測(cè)。標(biāo)配4路碰撞反應(yīng)氣體，*消除多原子離子干擾；標(biāo)配有機(jī)加氧裝置，可直接分析半導(dǎo)體行業(yè)的有機(jī)試劑樣品。開(kāi)放的硬件設(shè)計(jì)，使得ICPMS操作更簡(jiǎn)單，維護(hù)更方便。
Element XR HR-ICP-MS
高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜儀
高分辨率可達(dá)10000，可區(qū)分質(zhì)量數(shù)小于0.01 amu的質(zhì)譜干擾，真正實(shí)現(xiàn)無(wú)干擾分析，并減少?gòu)?fù)雜的樣品制備和方法開(kāi)發(fā)過(guò)程。應(yīng)用：高純?cè)噭⒏呒儾牧?、高純氣體中痕量元素準(zhǔn)確定量。
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Element GD Plus GD-MS
輝光放電質(zhì)譜儀
高純固體樣品直接分析，*減少樣品處理步驟，降低沾污風(fēng)險(xiǎn)。
熱門(mén)應(yīng)用：
賽默飛ELEMENT GD Plus GD-MS檢測(cè)高純Si中的Fe、Cu、Ti的深度分布
Fe、Cu、Ti（<10 ppbw）是對(duì)太陽(yáng)能電池性能損害最大的金屬雜質(zhì)：
Fe、Cu在Si中會(huì)快速擴(kuò)散，屬于間隙雜質(zhì)；
Ti擴(kuò)散速度慢，會(huì)占據(jù)Si晶格的取代位點(diǎn)（類(lèi)似B、P摻雜元素）。
賽默飛ELEMENT GD Plus GD-MS半導(dǎo)體檢測(cè)高純硅，高純碳化硅，砷化鎵等，雜質(zhì)含量的檢出限可達(dá)到ppb及ppb以下。高純靶材中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)及純度鑒定，如銅，鈦，鋁，鉬及ITO等靶材，可實(shí)現(xiàn)6N+純度的鑒定。高純石墨及石墨粉的雜質(zhì)含量檢測(cè)及純度鑒定，可實(shí)現(xiàn)6N+純度的鑒定。
提前注冊(cè)享好禮
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