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使用 NexION 5000 ICP-MS 對(duì)稀硝酸中的超痕量非金屬元素進(jìn)行測(cè)定

閱讀：313      發(fā)布時(shí)間：2021-05-17
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硝酸廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和電子工業(yè)中。按照不同的應(yīng)用和預(yù)期用途，需要的純度等級(jí)也是不同的。
 
超純或半導(dǎo)體級(jí)氨（HNO3）用于硅和各種重金屬的濕法刻蝕。也常與其他材料混合形成拋光劑，用于板互連的金屬部件上。由于這些原因，為滿足生產(chǎn)要求，半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)硝酸溶液中包括非金屬元素在內(nèi)的各種雜質(zhì)的檢測(cè)要求越來(lái)越高。由于等離子體氣體和樣品基質(zhì)存在復(fù)雜的光譜干擾，使用傳統(tǒng)的 ICP-MS 對(duì)稀硝酸中的非金屬元素如砷（As）、溴（Br）、氯（Cl）、碘（I），磷（P）、硫（S）、硒（Se）和硅（Si）進(jìn)行低 ppt 定量具有很大挑戰(zhàn)性。

這個(gè)問(wèn)題使用如下配置的 ICPMS 很容易解決：此系統(tǒng)不僅在離子進(jìn)入碰撞反應(yīng)池前對(duì)其進(jìn)行質(zhì)量過(guò)濾，而且還可控制其在池中的反應(yīng)，這是只有四級(jí)桿反應(yīng)池才有的功能。這確保沒(méi)有副反應(yīng)產(chǎn)生副產(chǎn)物，實(shí)現(xiàn)可預(yù)測(cè)和可重復(fù)的干擾被消除，且無(wú)論樣品基質(zhì)如何。使用這種儀器分析非金屬元素往往可得出優(yōu)秀的背景等效濃度和檢出限。

這篇應(yīng)用簡(jiǎn)述中，用 NexION® 5000 多重四級(jí)桿 ICP-MS測(cè)出稀硝酸中非金屬雜質(zhì)的檢出限（DL）和背景等效濃度（BEC）。分析使用單個(gè)分析方法進(jìn)行，冷或熱等離子體條件依據(jù)分析物決定。

 

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 珀金埃爾默企業(yè)管理（上海）有限公司

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