CS 電化學(xué)工作站是集電化學(xué)分析方法和電化學(xué)測試方法于一體的電化學(xué)通用儀器,軟件具備實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)自動(dòng)處理和實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析功能,可用于多種電化學(xué)相關(guān)測試與研究。
具體應(yīng)用于:1)研究電化學(xué)機(jī)理;物質(zhì)的定性定量分析;2)常規(guī)電化學(xué)測試,包括電合成、電沉積(電鍍)性能評價(jià);3)功能和能源材料(電池、超級電容器、納米材料、生物傳感器等)的機(jī)理和制備研究;4)緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率快速評價(jià)以及氫滲測試等;5)金屬材料在導(dǎo)電性介質(zhì)(包括水/土壤/混凝土等環(huán)境)中的腐蝕電化學(xué)測試。
1、硬件參數(shù)指標(biāo)
恒電位電位控制范圍:±10V
恒電流控制范圍:±2.0A
電位控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV
電流控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)
電位分辨率:10mV(>100Hz), 3mV(<10Hz)
電流靈敏度:1pA
電位上升時(shí)間:<1mS(<10mA),<10mS(<2A)
參比電極輸入阻抗:1012W||20pF
電流量程:2A~2nA, 共10檔
槽壓:±21V
大輸出電流:2.0A
CV 和LSV掃描速度:0.001mV~10000V/s
CA和CC脈沖寬度:0.0001~65000s
電流掃描增量:1mA @1A/mS
電位掃描時(shí)電位增量:0.076mV @1V/mS
SWV頻率:0.001~100KHz
DPV和NPV脈沖寬度:0.0001~1000s
AD數(shù)據(jù)采集:16bit@1MHz, 20bit @1KHz
DA分辨率:16bit, 建立時(shí)間:1mS
CV的小電位增量:0.075mV
IMP頻率:10mHz~1MHz
低通濾波器:8段可編程
電流與電位量程:自動(dòng)設(shè)置
接口通訊模式:USB2.0
2、電化學(xué)阻抗功能指標(biāo)
信號發(fā)生器:
頻率響應(yīng):10mHz~1MHz
交流信號幅值:0mV~2500mV
直流偏壓:-10~+10V
DDS輸出阻抗:50W
波形:正弦波,三角波,方波
正弦波失真:<1%
掃描方式:對數(shù)/線性,增加/下降
大負(fù)載電容:1nF;大負(fù)載電感:10mH
信號分析器:
積分時(shí)間:小值:10mS 或者一個(gè)循環(huán)的長時(shí)間
大值:106個(gè)循環(huán)或者105S
測量時(shí)間延遲:0~105秒
直流偏置補(bǔ)償:
電位自動(dòng)補(bǔ)償范圍:-10V~+10V
電流補(bǔ)償范圍:-1A~+1A
帶寬調(diào)整(Bandwidth) :自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置, 共8級可調(diào)
3、功能方法對比
CS350H、CS310H、CS312H和CS315H硬件參數(shù)指標(biāo)、電化學(xué)阻抗指標(biāo)相同,電化學(xué)功能方法設(shè)置有區(qū)別,詳細(xì)比較見下圖:
功 能 方 法 | CS350H | CS310H | CS312H | CS315H | |
穩(wěn)態(tài)極化 | 開路電位測量(OCP) | l | l | l | l |
恒電位極化(I-t) | l | l | l | l | |
恒電流極化 | l | l | l | l | |
動(dòng)電位掃描(Tafel) | l | l | l | l | |
動(dòng)電流掃描(DGP) | l | l | l | l | |
暫態(tài)極化 | 任意恒電位階梯波 | l | l | l | l |
任意恒電流階梯波 | l | l | l | l | |
多電位階躍(VSTEP) | l | l |
| l | |
多電流階躍(ISTEP) | l | l |
| l | |
計(jì)時(shí)分析 | 計(jì)時(shí)電位法(CP) | l | l |
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計(jì)時(shí)電流法(CA) | l | l |
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計(jì)時(shí)電量法(CC) | l | l |
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伏安分析 | 線性掃描伏安法(LSV) | l | l | l | l |
循環(huán)伏安法(CV) | l | l | l | l | |
階梯伏安法(SCV) | l |
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差分脈沖伏安法(DPV) | l |
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常規(guī)脈沖伏安法(NPV) | l |
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方波伏安法(SWV) | l |
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交流伏安法(ACV) | l |
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常規(guī)差分脈沖伏安法(DNPV) | l |
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二次諧波交流伏安(SHACV) | l |
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溶 出 伏 安 | 恒電位溶出伏安 | l |
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線性溶出伏安 | l |
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階梯溶出伏安 | l |
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方波溶出伏安 | l |
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交流溶出伏安 | l |
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交流阻抗 | 電化學(xué)阻抗(EIS)~頻率掃描 | l | l | l | l |
電化學(xué)阻抗(EIS)~時(shí)間掃描 | l | l | l | l | |
電化學(xué)阻抗(EIS)~電位掃描 | l | l | l | l | |
腐蝕測量 | 循環(huán)極化曲線(CPP) | l | l | l |
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線性極化曲線(LPR) | l | l | l |
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電化學(xué)噪聲(EN) | l | l | l |
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電偶腐蝕測量(ZRA) | l | l | l |
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氫擴(kuò)散測試(HDT) | l | l | l |
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電池 | 電池充放電測試 | l | l |
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恒電流充放電 | l | l |
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擴(kuò)展測量 | 盤環(huán)電極測試 | l | l |
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數(shù)字記錄儀 | l | l | l | l | |
波形發(fā)生器 | l | l |
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圓盤電機(jī)控制 | l | l |
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