白光干涉儀目前在3D檢測(cè)領(lǐng)域是精度的測(cè)量?jī)x器之一，在同等系統(tǒng)放大倍率下檢測(cè)精度和重復(fù)精度都高于共聚焦顯微鏡和聚焦成像顯微鏡，在一些納米級(jí)和亞納米級(jí)的超精密加工領(lǐng)域，除了白光干涉儀，其它的儀器無法達(dá)到其加工精度要求。
    白光干涉三維形貌儀是利用光學(xué)干涉原理研制開發(fā)的超精密表面輪廓測(cè)量?jī)x器。照明光束經(jīng)半反半透分光鏡分成兩束光，分別投射到樣品表面和參考鏡表面。從兩個(gè)表面反射的兩束光再次通過分光鏡后合成一束光，并由成像系統(tǒng)在CCD相機(jī)感光面形成兩個(gè)疊加的像。由于兩束光相互干涉，在CCD相機(jī)感光面會(huì)觀察到明暗相間的干涉條紋。干涉條紋的亮度取決于兩束光的光程差，根據(jù)白光干涉條紋明暗度以及干涉條文出現(xiàn)的位置解析出被測(cè)樣品的相對(duì)高度。
光學(xué)干涉測(cè)量法作為一種重要的非接觸表面三維形貌測(cè)量手段，一直是國內(nèi)外高精度測(cè)量領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。基于干涉原理的光學(xué)表面三維形貌檢測(cè)方法發(fā)展很快，其精度和測(cè)量范圍都達(dá)到了很高的指標(biāo)?；谝葡喔缮嫠惴ǎ≒SI）的光學(xué)表面形貌檢測(cè)儀多以激光為光源，精度可優(yōu)于1nm，測(cè)量范圍在微米量級(jí)。在市場(chǎng)需求的推動(dòng)下，用于工業(yè)生產(chǎn)的白光干涉儀干涉儀向小型化發(fā)展，并且對(duì)儀器的抗干擾能力、操作簡(jiǎn)便性、測(cè)量精度、橫向與縱向測(cè)量范圍都提出了更高的要求。因此本作品作為一種成本低、功能強(qiáng)的型表面微觀形貌檢測(cè)儀器，具有很好的發(fā)展前景。