Sensofar光學(xué)輪廓儀用于微流體應(yīng)用的激光制造微通道表征
利用 Sensofar 的 3D 光學(xué)輪廓儀 S neox,我們可以輕松表征通過激光技術(shù)制造的微通道的形貌
因微流體領(lǐng)域呈現(xiàn)出的巨大應(yīng)用潛力,它在過去幾年中經(jīng)歷了巨大的發(fā)展。直接微流體應(yīng)用的一些例子包括芯片實(shí)驗(yàn)室、芯片器官、護(hù)理點(diǎn)器件、細(xì)胞捕獲、化學(xué)和生物學(xué)分析。在用途方面,微流控器件有不同的幾何形狀,其復(fù)雜程度可根據(jù)需要而調(diào)整,但是構(gòu)成這些微流控器件的基本結(jié)構(gòu)之一是微通道。
已知有幾種材料可用于制造微通道,而材料的適用性取決于制造技術(shù)。這些材料中包括聚合物、硅或玻璃。制造技術(shù)的示例包括軟刻蝕、光刻和熱熔技術(shù)。但是,當(dāng)使用鈉鈣玻璃作為材料時(shí)(因其堅(jiān)固性、耐化學(xué)性、透明性和低成本),直接激光刻寫便成為最合適的技術(shù)之一。其精確且多用途,可快速生成非常復(fù)雜的幾何圖形。而且,由于其非接觸性質(zhì),因此沒有污染物并且不需要潔凈室設(shè)施。當(dāng)為此應(yīng)用目的進(jìn)行納米尺度操作時(shí),必須具有非常良好的形貌圖,以確保其質(zhì)量,以及有關(guān)通道尺寸的所有信息。在此報(bào)告中,通過共聚焦顯微鏡對(duì)通過直接激光寫入制造的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了充分表征。
通過直接激光寫入在鈉鈣玻璃上制造微通道。使用的激光器是 Rofin Nd:YVO4 系統(tǒng),脈沖持續(xù)時(shí)間為 20 ns,中心波長為 1064 nm。該裝置由檢流計(jì)系統(tǒng)構(gòu)成,該檢流計(jì)系統(tǒng)處理,并且無需樣品移動(dòng)即可制造復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。使用焦距為 100 mm 的透鏡將激光束聚焦在基板表面上,以確保工作區(qū)域面積為 80×80 mm2。鈉鈣玻璃購自當(dāng)?shù)毓?yīng)商。
為了獲得適當(dāng)?shù)慕Y(jié)構(gòu)縱橫比,操作員對(duì)樣品進(jìn)行了多次激光掃描。因此對(duì)形貌演變進(jìn)行研究。研究人員通過 1 到 10 次掃描制造出微通道。使用 Sensofar S neox 3D 光學(xué)輪廓儀,使用 20 倍放大倍率物鏡捕獲結(jié)構(gòu)區(qū)域的共聚焦圖像。生成表面輪廓,并描繪出激光掃描產(chǎn)生的微通道深度變化(圖 1)。
微通道壁的粗糙度值是一個(gè)須獲得的關(guān)鍵值,因?yàn)樗仨氉銐虻筒趴捎糜谖⒘黧w應(yīng)用。利用 Sensofar S neox 3D 光學(xué)輪廓儀和 SensoMAP 分析軟件,研究人員得以從小面積獲得粗糙度值。本研究選擇了通過 50 倍放大倍率物鏡獲得的八次激光掃描微通道底部的形貌(圖 2)。
圖 1. 不同激光掃描次數(shù)下的多個(gè)微通道的共聚焦圖像(左:一次,右:十次)。生成的通道輪廓
圖 2. 根據(jù) ISO 25178 標(biāo)準(zhǔn),用激光制造的一個(gè)微通道的 3D 形貌以及通道底部的粗糙度參數(shù)
憑借激光直接寫入的多功能性和精確度,我們可以制造出幾種微流控器件。在這里,我們顯示了使用 20 倍物鏡獲得的某些示例的部分 3D 共聚焦形貌圖(圖 3)。
圖 3. 3D 共聚焦形貌圖詳細(xì)描繪了一些在鈉鈣玻璃操作激光的一些微流控器件示例
利用 Sensofar 的 3D 光學(xué)輪廓儀 S neox,我們可以輕松表征通過激光技術(shù)制造的微通道的形貌。使用具有 20 倍放大倍率物鏡的共聚焦技術(shù)分析激光掃描的結(jié)構(gòu)輪廓的演變。此外,結(jié)合 SensoMAP 分析軟件,可以計(jì)算出制造出的通道的粗糙度參數(shù)。在這個(gè)例子中,獲取共聚焦形貌時(shí)使用了50 倍放大放大倍率物鏡。
總之,通過使用 S neox 3D 光學(xué)輪廓儀,可以在尺寸和粗糙度上完*表征每個(gè)結(jié)構(gòu)。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。