聯(lián)合光科復(fù)雜光譜分光鏡鍍膜要點分析

隨著光學(xué)技術(shù)的發(fā)展和市場需求的提高，復(fù)雜光譜鏡片的鍍膜技術(shù)在諸多場景開始廣泛應(yīng)用，下面我們一起來看一下復(fù)雜光譜分光鏡鍍膜要點分析。

復(fù)雜光譜鏡片主要包括濾光片，分光鏡及合束鏡等，其效率問題主要來自下面兩個方面：

一、45°入射條件下消偏振的處理

對于任何光學(xué)薄膜（單層膜或者多層膜），決定其光譜特性的是其材料的有效折射率：
                                                     ηs=n*cosθ      ηp=n/cosθ
       上述 ηs 和 ηp 是S、P兩種不同偏振態(tài)下的等效折射率，θ是光的入射角，n是薄膜材料的折射率。從上述公式可以看出，僅在正入射情況下，s、p兩種偏振態(tài)的有效折射率是相等的。在有角度入射的條件下，s、p兩種偏振態(tài)的有效折射率是不同的。這就是帶角度入射情況下，薄膜偏振效應(yīng)的理論根源。這種偏振效應(yīng)也是本項目指標(biāo)難度的根本所在。為了消除偏振效應(yīng)，在基礎(chǔ)膜系的基礎(chǔ)上需要大量的膜層去匹配。這些匹配層膜厚不規(guī)則，對偏振效應(yīng)的影響很敏感，因此膜厚誤差需要控制的相對準(zhǔn)確。

二、反射區(qū)到透射區(qū)過渡的陡度

陡度主要帶來如下三個難題：

  A. 陡度越大，膜層數(shù)越多，工藝穩(wěn)定性要求越高，系統(tǒng)誤差要求越小

  B. 陡度越大，波長定位精度要求越高，制造時，報廢和返工的可能性就越大，實驗的次數(shù)就要增加。

  C. 陡度越大，對均勻性要求就越高。

強光光學(xué)元件的熱變形問題，主要來自于元件的吸收，吸收源主要來自于如下三個方面：

  1.  鏡片元件基底吸收。為了規(guī)避這一點，可采用低吸收的康寧石英或賀利氏石英作為基底。

  2.  膜層吸收。為降低膜層吸收，可采用極低吸收的電子槍蒸發(fā)-高能離子束輔助工藝，采用高純度鍍膜材料進(jìn)行鍍制。

  3.  服役環(huán)境污染。該污染主要來自于服役時元件清潔不良，在激光作用下，附著雜質(zhì)與激光作用產(chǎn)生的光致吸收現(xiàn)象。

以上就是復(fù)雜光譜分光鏡鍍膜的一些要點，想了解更多，歡迎與我們?nèi)〉寐?lián)系。聯(lián)合光科技是中國標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件現(xiàn)貨供應(yīng)商，致力于為用戶提供各類光學(xué)元件，同時也提供光學(xué)產(chǎn)品的定制服務(wù)。您在光學(xué)元件方面的任何需求，我們都將竭誠為您服務(wù)，期待您的聯(lián)系。